0100472 - FZU-D 20040328 RIV US eng J - Journal Article
Shah, A. V. - Schade, H. - Vaněček, Milan - Meier, J. - Vallat-Sauvain, E. - Wyrsch, N. - Kroll, U. - Droz, C. - Bailat, J.
Thin-film silicon solar cell technology.
[Technologie slunečních článků na bázi tenkých křemíkových vrstev.]
Progress in Photovoltaics. Roč. 12, - (2004), s. 113-142. ISSN 1062-7995. E-ISSN 1099-159X
R&D Projects: GA MŽP SN/320/11/03
Institutional research plan: CEZ:AV0Z1010914
Keywords : thin-film silicon modules * hydrogenerated amorphous silicon(a-Si:H) * hydrogenerated microcrystalline (ćc-Si:H) * transparent conductive oxydes(TCOs) * building-integrated photovoltaics(BIPV)
Subject RIV: BM - Solid Matter Physics ; Magnetism
Impact factor: 1.196, year: 2004

This paper describes the use, within p-i-n-and n-i-p-type solar cells, of hydrogenated amorphous silicon(a-Si:H) and hydrogenated microcrystalline silicon (µc:H) thin films (layers), both deposited at low temperatures (200^oC) by plasma-assisted chemical vapour deposition (PECVD), from a mixture of silane and hydrogen

Článek popisuje použití tenkých vrstev hydrogenovaného amorfního a mikrokrystalického křemíku pro solární články typu p-i-n a n-i-p, deponovaných při nízkých teplotách (200^oC) ze silanu a vodíku metodou PECVD
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0007974