Systém pro realizaci depozice tenkých vrstev za atmosférického tlaku

0092352 - FZÚ 2008 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Churpita, Olexandr - Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Jastrabík, Lubomír - Deyneka, Alexander - Kment, Štěpán - Hrabovský, Miroslav
Systém pro realizaci depozice tenkých vrstev za atmosférického tlaku.
[System for deposition of thin layers under atmospheric pressure.]
Internal code: 17139 ; 2007
Technical parameters: Technologie a metoda realizace depozice tenkých vrstev za atmosferického tlaku
Economic parameters: -
R&D Projects: GA MŠMT(CZ) 1M06002
Institutional research plan: CEZ:AV0Z10100522
Keywords : thin layers * deposition * atmospheric pressure
Subject RIV: BH - Optics, Masers, Lasers

Systém využívá pro depozici tenkých transparentních vrstev na plastových substrátech plazmochemických reakcí vyvolaných za atmosférického tlaku RF výbojem napájecí elektrody. Podstatná je lineární soustava pracovních trysek opatřených na svém vnitřním, případně i vnějším povrchu dielektrickými bariérami. Trysky jsou napojeny svými kanály na jedné straně na přívod pracovního plynu a nasměrovány na povrch tělesa, kam se nanáší tenká vrstva. Soustava trysek je opásána prstencovou pracovní elektrodou napojenou přes tuner na výkonový RF generátor do pulsního modulátoru. Lze takto deponovat na otevřeném prostředí za atmosférického tlaku tenké vodivé vrstvy InxOy, SnOx, ZnO a ZnO dopované Al o tloušťkách 200 nm – 800 nm i více při teplotách nižších než 80 oC

The system for deposition of thin transparent layers on plastic substrates employs plasma-chemical reactions using a radio-frequency (RF) discharge from feed electrode under the atmospheric pressure. The linear system of work nozzles, provided with dielectric barriers on their inner, respectively outer surface, is substantial. The nozzle channels are attached to the operational gas source at one side of nozzles and directed to the body surface to be covered by thin layer. The nozzle system is wrapped by ring work electrode connected via tuner to the high-power RF generator into the pulse modulator. Then the deposition of conductive layers (InxOy, SnOx, ZnO and ZnO doped by Al, thickness 200 nm – 800 nm and more) in an open area under an atmospheric pressure and temperatures below 80 oC is possible
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0152699