Recent progress in mesostructured materials

0088024 - ÚFCH JH 2008 RIV NL eng M - Monography Chapter
Fattakhova Rohlfing, D. - Wark, M. - Rathouský, Jiří
Optimization of the silylation procedure of thin mesoporous SiO2 films with cationic trimethylaminopropylammonium groups.
[Optimalizace silylační procedury pro tenké mesoporézní filmy SiO2 s kationickými trimethylaminopropylamoniovými skupinami.]
Recent progress in mesostructured materials. Amsterdam: Elsevier B.V./Ltd, 2007 - (Zhao, D.; Qiu, S.; Tang, Y.; Yu, C.), s. 573-577. Studies in surface science and catalysis, Vol. 169. ISBN 978-0-444-53084-4
R&D Projects: GA MŠMT 1M0577
Grant - others:DFG(DE) WA 1116/10; DFG(DE) 436 TSE/130/46/0-1; DAAD(DE) D/04/25758
Institutional research plan: CEZ:AV0Z40400503
Source of funding: R - Framework programmes of European Commission ; R - Framework programmes of European Commission ; R - Framework programmes of European Commission
Keywords : SiO2 * cationic trimethylaminopropylammonium groups * mesoporous silicas
Subject RIV: CF - Physical ; Theoretical Chemistry

Mesoporous silicas are excellent hosts for incorporation of various guest molecules. The properties of the relatively inert silica surface can be drastically changes by the covalent grafting of functional groups, such as thiol-, amino- or alkylammonium ones, by silylation with chloro- or alkoxysilanes. While the silylation procedure has been optimized for powdered mesoporous silica materials with differing porosity, it has not been developed for mesoporous silica thin films yet, even if the obvious differences in diffusion properties and pore accessibility of powders and films would imply the different conditions needed for their silylation. Recently we have faced a serious problem of poor reproducibility of silylation procedure of silica films when investigating their applicability as a matrix for anchoring electrochemically active species and dye molecules. Therefore, the optimization of their silylation procedure has been aimed at in this communication.

Vývoj postsyntetické silylační procedury pro tenké mesoporézní filmy SiO2 s kationickými trimethylaminopropylamoniovými skupinami, zaměřený na účinnou a reprodukovatelnou inkorporaci anionických molekul, jasně ukázal rozdílnou silylační reaktivitu filmů a práškových mesoporézních materiálů. Hlavní rozdíl je v případě filmů způsoben omezenou dostupností povrchu siliky pro silylační činidlo, což má za následek tendenci k blokování pórů pro delší reakční časy. Nízká koncentrace silylačního činidla a krátké reakční časy jsou proto nutnou podmínkou pro reprodukovatelnou silylaci tenkých mesoporézních filmů. Dále krátká aktivace povrchu v mírně alkalickém roztoku umožňuje dosáhnout optimální silylační efektivity.
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0149703