X-UV interferential microscopy: a tool for the study of the spoiling of optical surfaces

0082769 - FZÚ 2007 RIV FR eng J - Journal Article
Jamelot, G. - Ros, D. - Cassou, K. - Kazamias, S. - Klisnick, A. - Kozlová, Michaela - Mocek, Tomáš - Homer, Pavel - Polan, Jiří - Stupka, Michal - Rus, Bedřich
X-UV interferential microscopy: a tool for the study of the spoiling of optical surfaces.
[X-UV inteferenční mikroskopie: nástroj pro studium poškozování optických povrchů.]
Journal de Physique IV. Roč. 138, - (2006), s. 245-260. ISSN 1155-4339
R&D Projects: GA ČR GA202/05/2316; GA MŠMT(CZ) LC528
EU Projects: European Commission(XE) 506350 - LASERLAB-EUROPE; European Commission(XE) HPMT-CT-2001-00263
Institutional research plan: CEZ:AV0Z10100523
Keywords : X-ray laser * XUV interferometry * XUV microscopy * laser-induced optical damage * fused silica
Subject RIV: BH - Optics, Masers, Lasers
Impact factor: 0.315, year: 2006

We present results of an application of X-ray laser, aimed at understanding the effects involved in formation of laser-induced damage in optical materials exposed to sub-ns laser pulses. A novel interferometric microscopy technique was designed and tested

Představujeme výsledky pilotního experimentu s rentgenovým laserem zaměřeného na studium jevů k nimž dochází při vzniku laserem indukovaného poškození optických materiálů po ozáření sub-nanosekundovým laserem. Byla vyvinuta a otestována nová technika interferometrické mikroskopie
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0146238