Composite SiOx/hydrocarbon plasma polymer films prepared by RF magnetron sputtering of SiO2 and polyimide

0081736 - ÚJF 2007 RIV GB eng J - Journal Article
Drabik, M. - Kousal, J. - Pinosh, Y. - Choukourov, A. - Biederman, H. - Slavínská, D. - Macková, Anna - Boldyryeva, Hanna - Pešička, J.
Composite SiOx/hydrocarbon plasma polymer films prepared by RF magnetron sputtering of SiO2 and polyimide.
[Kompositní vrstvy polymeru a SiOx připravené RF magnetronovým naprašováním SiO2 a polyimidu.]
Vacuum. Roč. 81, č. 7 (2007), s. 920-927. ISSN 0042-207X. E-ISSN 1879-2715
Institutional research plan: CEZ:AV0Z10480505
Keywords : composite films * magnetron * sputtering * polyimide * SiO2
Subject RIV: BL - Plasma and Gas Discharge Physics
Impact factor: 0.881, year: 2007

Preparation procedure and properties of composite SiOx/hydrocarbon plasma polymer films are described and discussed. The composite films have been prepared by RF sputtering in argon from two balanced magnetrons equipped with silica (SiO2) and polyimide (PI) targets. Morphology and composition of the composite films have been analysed by means of AFM, TEM, RBS/ERDA and FTIR. Wettability in terms of contact angle of water increases from 28 degrees to 46 degrees when the content of the SiOx component of the composite increases. Peculiar properties of the composite SiOx/hydrocarbon plasma polymer films are discussed with respect to their elemental composition and nature of chemical bonds created on the surface of the films.

Příprava a vlastnosti kompozitních vrstev polymeru a SiOx připravené plasmatickou polymerizací jsou zde prezentovány. Vrstvy byly připraveny magnetronovým naprašováním v argonu ze dvou vyvážených magnetronů vybavených SiO2 a polyimidovým targetem. Morfologie a složení vrstev bylo analyzováno metodami AFM, TEM, RBS/ERDA a FTIR. Smáčivost ve smyslu měření kontaktního úhlu vody se zvyšuje z 28 na 46 °, pokud obsah SiOx v kompozitní vrstvě se zvyšuje. Zvláštní vlastnosti kompozitních vrstev SiOx/polymer jsou diskutovány vzhledem k jejich prvkovému složení a povaze jejich chemických vazeb vznikajících na povrchu deponované vrstvy.
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0145514