Number of the records: 1  

Voltammetry of highly dispersed copper powders at mercury electrodes

  1. 1.
    0035888 - ÚFCH JH 2007 RIV CZ eng K - Conference Paper (Czech conference)
    Heyrovský, Michael - Korshunov, A. - Bakardjieva, Snejana
    Voltammetry of highly dispersed copper powders at mercury electrodes.
    [Voltametrie vysoce dispergovaných měděných prášků na rtuťových elektrodách.]
    Sborník přednášek z XXVI. mezinárodního odborného semináře. Praha: Česká společnost chemická, 2006 - (Barek, J.; Navrátil, T.), s. 37-39. ISBN 80-86238-98-9.
    [Moderní elektrochemické metody /26./. Jetřichovice (CZ), 09.05.2006-12.05.2006]
    R&D Projects: GA MPO 1H-PK/42
    Institutional research plan: CEZ:AV0Z40400503; CEZ:AV0Z40320502
    Keywords : electrochemistry * voltammetry * copper
    Subject RIV: CG - Electrochemistry

    Average size of majority of the tested powder particles was between 100 and 300 nm, which are kept in relatively stable dispersed form in electrolytic solutions by Brownian motion. Electrolytic activity of the particles was due to 10-30 nm thick surface layer of copper oxides, the outer side consisting of CuO, the inner side of Cu2O. The current due to electroreduction of surface copper oxides followed particulate mechanism: on fortuitous contact of particle with electrode surface an immediate transfer of a number of electrons takes place, determined by time of the contact and by several dynamic and steric factors. No diffusion flux of particles to electrode surface is established. The potential of particulate electroreduction is determined by electronic structure of the actual form of the solid state particle.

    Průměrná velikost částic většiny zkoumaných prášků byla mezi 100 a 300 nm; takové částice jsou udržovány v roztocích elektrolytů v poměrně stalém dispergovaném stavu Brownovým pohybem. Původ elektrolytické activity částic spočíval v 10-30 nm silné povrchové vrstvě oxidů mědi, sestávající ve vnější části z CuO, ve vnitřní z Cu2O. Proud elektroredukce povrchových oxidů se řídil částicovým mechanismem : při náhodném dotyku částice s povrchem elektrody dojde k okamžitému přenosu množství elektronů, jejichž počet se řídí dobou dotyku a několika dynamickými a prostorovými činiteli. Nevzniká difuzní tok částic k povrchu elektrody. Potenciál částicové elektroredukce se řídí elektronovou strukturou dané formy částic pevné faze.
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0133040

     
     
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.