Number of the records: 1  

Nové možnosti jaderných analytických metod s využitím urychlovače Tandetron 4130 na pracovišti ÚJF AV ČR

  1. 1.
    0030834 - ÚJF 2007 RIV CZ cze H - Proceedings (Czech conference)
    Macková, Anna
    Nové možnosti jaderných analytických metod s využitím urychlovače Tandetron 4130 na pracovišti ÚJF AV ČR.
    [New possibilities of nuclear analytical methods using accelerator Tandetron 4130 in Nuclear Physics Institute of ASCR.]
    Praha: -, 2006. 68 s. ISBN 80-7080-590-0.
    [Seminář radioanalytické metody 2005. Praha (CZ), 22.6.2005]
    Institutional research plan: CEZ:AV0Z10480505
    Keywords : accelerator Tandetron 4130 * nuclear analytical methods
    Subject RIV: BG - Nuclear, Atomic and Molecular Physics, Colliders

    Nový urychlovač Tandetron unikátní v ČR poskytuje nové možnosti diagnostiky materiálů, výzkumu a syntézy materiálů s využitím iontových svazků. Poskytuje iontové svazky od vodíku po zlato s energiemi okolo 20MeV. Představujeme stávající jaderné analytické metody RBS, ERDA, PIXE, PIGE a dále byly presentovány nové metody RBS-kanálování, ERDA-TOF a mikrosvazek, které budou instalovány do roku 2007 a významně rozšíří analytické možnosti pracoviště. Tyto metody umožňují dosáhnout laterální rozlišení pod 1 mikrometr a hloubkové rozlišení okolo 1 nm. Rovněž poskytují možnosti studia krystalických struktur v jejich intersticiálních polohách. Dále bude zprovozněna implantace, kterou lze použít pro vývoj a modifikaci materiálů.

    The new accelerator (unique in Czech Republic) makes realisable to fundamentally develop the present analytical possibility and to put on the new technique of material modification and synthesising of advanced materials and structures. We report on new analytical methods - RBS-channeling, ERDA-TOF, ion microprobe. These methods give us opportunity to study crystalline materials in interstitial positions, to achieve the lateral resolution less than 1 micrometer and the depth resolution better than 1 nm. New accelerator produces wide range of ion masses, so the ion implantation is very important material modification technique.
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0131648

     
     
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.