0025706 - FZÚ 2006 RIV US eng J - Journal Article
Jamelot, G. - Ros, D. - Carillon, A. - Rus, Bedřich - Mocek, Tomáš - Kozlová, Michaela - Präg R., Ansgar - Joyeux, D. - Phalippou, D. - Boussoukaya, M. - Kalmykow, M. - Ballester, F. - Jacques, E.
Nanometric deformations of thin Nb layers under a strong electric field using soft x-ray laser interferometry.
[Měření nanometrických deformací tenkých Nb vrstev za přítomnosti silného elektrického pole s pomocí rentgenové interferometrie.]
Journal of Applied Physics. Roč. 98, - (2005), 044308/1-044308/8. ISSN 0021-8979. E-ISSN 1089-7550
R&D Projects: GA MŠMT(CZ) LN00A100; GA AV ČR IAA1010014
Grant - others:EU(XE) HPRI-00108
Institutional research plan: CEZ:AV0Z10100523
Keywords : x-ray laser * x-ray interferometry
Subject RIV: BH - Optics, Masers, Lasers
Impact factor: 2.498, year: 2005

We present measurements of in situ nanometric-resolution topographical modifications of thin niobium layers subjected to strong electric fields. The Nb layers, deposited on a fused silica substrate, are interferometrically flash probed using soft x-ray laser XRL at the wavelength of 21.2 nm.

Bylo provedeno měření modifikací povrchu tenkých Nb vrstev vystavených silnému elektrickému poli s nanometrickým rozlišením. Nb vrstvy byly interferometricky sondovány rentgenovým laserem na vlnové délce 21.2 nm.

Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0116070