Submicron particle localization using evanescent field

0022520 - ÚPT 2006 RIV US eng C - Conference Paper (international conference)
Šiler, Martin - Šerý, Mojmír - Čižmár, Tomáš - Zemánek, Pavel
Submicron particle localization using evanescent field.
[Lokalizace submikronové částice pomocí evanescentního pole.]
Optical Trapping and Optical Micromanipulation II. (Proceedings of SPIE Vol. 5930). Belingham: International Society for Optical Engineering, 2005, s. 182-190. ISBN 0-8194-5935-6. ISSN 0277-786X.
[Optical Trapping and Optical Micromanipulation II. San Diego (US), 31.07.2005-04.08.2005]
Grant - others:EC 6FP(XE) ATOM3D No. 508952
Institutional research plan: CEZ:AV0Z20650511
Keywords : total internal reflection * evanescent wave * optical force * colloidal particle * interference optical trap
Subject RIV: BH - Optics, Masers, Lasers

Recently a non-contact organization of submicron colloidal particles on the surface attracted a great attention in connection with development of imaging techniques using total internal reflection. We focus here on the theoretical description of the forces acting on a submicron particle placed in an interference field created by two counter-propagating evanescent waves. Numerical results elucidate how these forces or trap depth depend on the particle size and angle of incidence of both beams. Experimental results proved these conclusions and several polystyrene particles of diameter 520 nm were confined in evanescent standing wave.

Bezkontaktní uspořádání submikronových koloidních částic na povrchu přitahuje velkou pozornost ve spojení s rozvojem zobrazovacích technik, které využívají totální odraz. Zaměříme se zde na teoretický popis sil působících na submikronové částice v interferenčním poli vytvořeném dvěma protiběžnými evanescentními vlnami. Numerické výsledky osvětlí, jak závisí hloubka pasti na velikosti částice a na úhlu dopadu obou svazků. Experimentální výsledky podporují tyto závěry jak bude ukázáno na příkladu několika polystyrénových kuliček zachycených do evanescentní stojaté vlny.
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0111249