Výzkum a vývoj pokročilého PVD/PECVD nízkoteplotního plazmatického systému pro depozice funkčních oxidů se zaměřením na tenké a tlusté vrstvy TiO2 pro průmyslové aplikace
1.
Project
Výzkum a vývoj pokročilého PVD/PECVD nízkoteplotního plazmatického systému pro depozice funkčních oxidů se zaměřením na tenké a tlusté vrstvy TiO2 pro průmyslové aplikace.
Project Name
TF01000084
Grant Agency
GA TA ČR
Research years
2015 - 2017
Grant Recipient
Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Participants
Olejníček
Catal.org.
CAV
References
(4) - Článek v odborném časopise
(1) - Prototyp, funkční vzorek
(1) - Patentový dokument
(1) - Užitný vzor, průmyslový vzor
(1) - Poloprovoz, technologie, odrůda, plemeno
File
Projekty
Number of the records: 1
openseadragon
This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about
how we use cookies.