Basket

  1. 1.
    0584699 - ÚPT 2024 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
    Kolařík, Vladimír - Meluzín, Petr - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Kopal, Jaroslav - Burda, Daniel
    Litografická maska s nanometrickým rozlišením.
    [Lithographic mask with nanometer accuracy.]
    Internal code: APL-2024-02 ; 2024
    Technical parameters: Kalibrační a metrologická pomůcka pro dosažení přesných výsledků při měření v optickém světelném spektru. Funkční vzorek je navržen jako mikroskopické sklíčko o rozměru cca. 76 mm x 26 mm, na kterém je umístěn motiv (resp. motivy) o celkovém rozměru cca. 46.7 mm x 18.5 mm.
    Economic parameters: Funkční vzorek vyvinutý během řešení projektu s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Petr Meluzín, meluzin@isibrno.cz.
    R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TN02000020
    Institutional support: RVO:68081731
    Keywords : calibration * optical * devices * resolution
    OECD category: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Permanent Link: https://hdl.handle.net/11104/0352542
     
     

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.