0536218 - ÚPT 2021 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Fořt, Tomáš - Chlumská, Jana - Úlehla, L. - Moťka, L.Speciální fotomaska pro měření zkreslení rekonstrukce obrazu.
[Special photomask for image distortion measurement of projection optics.]
Internal code: APL-2020-04 ; 2020
Technical parameters: Motiv kovové masky obsahuje matici přesně velikých čtvercových útvarů sloužících ke kontrole nastavení výrobního procesu
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, kratky@isibrno.cz
R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : e–beam lithography * reactive ion etching
OECD category: Optics (including laser optics and quantum optics)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0314036
