Basket

  1. 1.
    0499948 - FZU-D 2019 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
    Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Olejníček, Jiří - Kšírová, Petra - Straňák, Vítězslav - Adámek, Petr - Tvarog, Drahoslav
    Reaktivní HiPIMS depoziční systém optimalizovaný pro tenké optické vrstvy.
    [Reactive HiPIMS deposition system optimised for optical thin films.]
    Internal code: FVG1/FZU/2018 ; 2018
    Technical parameters: Mezní tlak plazmového reaktoru: 5 10-8 mbar, maximální střední výkon na jeden magnetron: 1000 W, rozměry terčů magnetronů: 50 mm, maximální výkon do ICP elektrody: 400 W, maximální DC magnetické pole
    Economic parameters: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
    R&D Projects: GA MPO FV10312
    Institutional support: RVO:68378271
    Keywords : sputtering * thin films * plasma * deposition * hollow cathode
    Subject RIV: BL - Plasma and Gas Discharge Physics
    OBOR OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0292132