Basket

0499948 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Olejníček, Jiří - Kšírová, Petra - Straňák, Vítězslav - Adámek, Petr - Tvarog, Drahoslav
Reaktivní HiPIMS depoziční systém optimalizovaný pro tenké optické vrstvy.
[Reactive HiPIMS deposition system optimised for optical thin films.]
Internal code: FVG1/FZU/2018 ; 2018
Technical parameters: Mezní tlak plazmového reaktoru: 5 10-8 mbar, maximální střední výkon na jeden magnetron: 1000 W, rozměry terčů magnetronů: 50 mm, maximální výkon do ICP elektrody: 400 W, maximální DC magnetické pole
Economic parameters: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
R&D Projects: GA MPO FV20580
Institutional support: RVO:68378271
Keywords : sputtering * thin films * plasma * deposition * hollow cathode
OECD category: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0292132