Basket

  1. 1.
    0481686 - FZU-D 2018 RIV cze P - Patent Document
    Olejníček, Jiří - Šmíd, Jiří - Hubička, Zdeněk - Adámek, Petr - Čada, Martin - Kment, Štěpán
    Způsob řízení rychlosti depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému a zařízení k provádění tohoto způsobu.
    [A method of controlling the rate of deposition of thin layers in a vacuum multi-nozzle plasma system and a device for implementing this method.]
    2017. Owner: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Date of the patent acceptance: 13.09.2017. Patent Number: 306980
    R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TF01000084
    Institutional support: RVO:68378271
    Keywords : hollow cathode * plasma nozzle * deposition * thin films
    Subject RIV: BL - Plasma and Gas Discharge Physics
    OBOR OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    https://isdv.upv.cz/webapp/webapp.pts.det?xprim=10241583&lan=cs&s_majs=&s_puvo=&s_naze=&s_anot=
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0277207