Basket

0371285 - FZÚ 2012 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Straňák, Vítězslav - Šmíd, Jiří - Jastrabík, Lubomír - Kment, Štěpán - Dejneka, Alexandr
Hybridní plazmatický pulzní HIPIMS+MF systém pro reaktivní naprašování optických tenkých vrstev pro laboratorní a testovací účely.
[Hybrid plasmatic pulse system HIPIMS+MF for reactive sputtering of optical thin films for laboratory and research purposes.]
Internal code: FS1/FZÚ/2011 ; 2011
Technical parameters: Magnetronové dělo M1, M2- rozměr terče: 50 mm. Maximální výstupní napětí HIPIMS zdroje: 1000 V Maximální proud v pulzu HIPIMS zdroje: 200 A Maximální střední proud magnetronem: 1A
Economic parameters: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
R&D Projects: GA TA ČR TA01010517
Institutional research plan: CEZ:AV0Z10100522
Keywords : sputtering * optical thin films * plasma * deposition * magnetron * hollow cathode
Subject RIV: BH - Optics, Masers, Lasers
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0204834