0482541 - ÚPT 2018 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Maňka, Tadeáš - Šerý, MojmírAparatura pro mokré leptání Si substrátů.
[System for wet etching of Si substrates.]
Internal code: APL-2017-09 ; 2017
Technical parameters: Funkční vzorek je určen pro mokré leptání Si substrátů. Většina komponent je vyrobena z teflonu, kvůli jeho vysoké chemické odolnosti. Aparatura je vybavena dvěma držáky substrátu. Jeden slouží pro leptání pouze jedné strany vzorku a druhý umožňuje leptat z obou stran. Pro dosažení dobré homogenity leptání je systém vybaven elektrickým pohonem vzorku. Aby nedošlo k nechtěnému poškození elektromotoru nebo vzorku, točivý moment přenáší třecí spojka. Řízení systému zajišťuje ovládací panel, který umožňuje regulovat otáčky elektromotoru a měřit teplotu leptací lázně v reálném čase.
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Tadeáš Maňka, manka@isibrno.cz
R&D Projects: GA MPO(CZ) FV10618; GA MŠMT(CZ) LO1212
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : Wet etching * KOH etching of Si
OECD category: Polymer science
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0277968