0426257 - ÚPT 2014 RIV CZ cze V - Research Report
Jákl, Petr - Šerý, Mojmír - Zemánek, Pavel
SMV-2013-19: Řešení nanolitografického systému založeného na dvoufotonové fotopolymerizaci.
[SMV-2013-19: Nanolithography system based on two-photon photopolymerization.]
Brno: Měřící technika Morava s.r.o, 2013. 2 s.
Source of funding: N - Non-public resources
Keywords : holography * laser beam shaping * polymerization
Subject RIV: BH - Optics, Masers, Lasers
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0232033