Výsledky vyhledávání

  1. 1.
    0571728 - ÚFE 2024 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
    Vasin, Andrii - Slobodian, O. - Rusavsky, A. - Gudymenko, O. - Lytvyn, P. - Tiagulskyi, Stanislav - Yatskiv, Roman - Grym, Jan - Bortchagovsky, E.B. - Dzhagan, V. - Zahn, D. - Nazarov, A.
    Nanoscale morphology tailoring in plasma deposited CN (x) layers.
    Journal of Physics D-Applied Physics. Roč. 56, č. 27 (2023), č. článku 275302. ISSN 0022-3727. E-ISSN 1361-6463
    Institucionální podpora: RVO:67985882
    Klíčová slova: CN (x) thin layers * nanoscale morphological shaping * plasma deposition
    Obor OECD: Materials engineering
    Impakt faktor: 3.4, rok: 2022
    Způsob publikování: Open access
    Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0345173
    Název souboruStaženoVelikostKomentářVerzePřístup
    UFE 0571728.pdf27.5 MBJinávyžádat
     
     
  2. 2.
    0566394 - ÚPT 2023 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
    Sháněl, O. - Schneider, M. - Řiháček, Tomáš - Radlička, Tomáš
    Si3Nx fázová destička pokrytá vodivou vrstvou.
    [Si3Nx phase plates covered by conductive layer.]
    Interní kód: APL-2022-15 ; 2022
    Technické parametry: Křemíkový čip nesoucí tenkou nitridovou membránu, která je pokrytá tenkou vodivou molybdenovou vrstvou. Otvor membrány je čtvercového tvaru o rozměru 100×100 µm. Z membrány je vytvořena fázová destička tím, že je v jejím středu udělaný otvor optimalizovaných rozměrů pomoci technologie fokusovaného iontového svazku. Tloušťka molybdenové vrstvy je optimalizovaná pro výsledný fázový posuv pi/2. Součástí funkčního vzorku je modifikovaný držák apertur, který umožňuje její umístění do zadní ohniskové roviny transmisního elektronového mikroskopu.
    Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Mgr. Tomáš Radlička, Ph.D.
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: transmission electron microscopy * phase plate * silicon nitride * thin layers
    Obor OECD: Electrical and electronic engineering
    Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0337734
     
     
  3. 3.
    0550697 - ÚPT 2022 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
    Sháněl, O. - Schneider, M. - Materna Mikmeková, Eliška - Řiháček, Tomáš - Podstránský, Jáchym - Radlička, Tomáš
    Si3Nx fázová destička.
    [Si3Nx phase plates.]
    Interní kód: APL-2021-05 ; 2021
    Technické parametry: Křemíkový čip nesoucí tenkou nitridovou membránu. Rozměr (Okénko v křemíkovém čipu) membrány je čtvercového tvaru o rozměru 100×100 µm. Tloušťka membrány je optimalizovaná tak, aby v posouvala fázi procházejícího svazku o pi/2. Čip je upevněný na platinové clonce o průměru 3 mm a ve středu clonky je malý otvor o rozměrech v jednotkách µm, který byl vytvořen pomoci FIB/SEM, tak aby odpovídal velikosti nultého řádu difrakce v zadní objektivové rovině.
    Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Mgr. Tomáš Radlička, Ph.D., radlicka@isibrno.cz.
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: transmission electron microscopy * phase plate * silicon nitride * thin layers
    Obor OECD: Electrical and electronic engineering
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0326001
     
     
  4. 4.
    0536583 - ÚPT 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
    Krátký, Stanislav - Fořt, Tomáš - Matějka, Milan - Materna Mikmeková, Eliška - Radlička, Tomáš - Řiháček, Tomáš - Sháněl, O. - Schneider, M. - Mareček, D.
    Fázová destička pro použití v transmisní elektronové mikroskopii.
    [Phase plate for transmission electron microscopy.]
    Interní kód: APL-2020-07 ; 2020
    Technické parametry: Křemíkový čip (tloušťka 200 µm) nesoucí tenkou nitridovou membránu (tloušťka ⁓70 nm). Otvor membrány je čtvercového tvaru o rozměru 100×100 µm. Čip je upevněný na platinové clonce o průměru 3 mm. Celý vzorek je pokoven tenkou vrstvou molybdenu (⁓3 nm).
    Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, kratky@isibrno.cz
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: transmission electron microscopy * phase plate * silicon nitride * thin layers * e-beam lithography
    Obor OECD: Electrical and electronic engineering
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314347
     
     
  5. 5.
    0536510 - ÚFP 2021 RIV PL eng J - Článek v odborném periodiku
    Lukáč, František - Hruška, Petr - Cichoň, Stanislav - Vlasák, T. - Čížek, J. - Kmjec, T. - Melikhova, O. - Butterling, M. - Liedke, M. O. - Wagner, A.
    Defects in thin layers of high entropy alloy HfNbTaTiZr.
    Acta physica polonica A. Roč. 137, č. 2 (2020), s. 219-221. ISBN N. ISSN 0587-4246. E-ISSN 1898-794X
    Grant CEP: GA ČR GA17-17016S
    Institucionální podpora: RVO:61389021 ; RVO:68378271
    Klíčová slova: HfNbTaTiZr * Thin Layers * High Entropy
    Obor OECD: Materials engineering; Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.) (FZU-D)
    Impakt faktor: 0.577, rok: 2020
    Způsob publikování: Omezený přístup
    http://przyrbwn.icm.edu.pl/APP/PDF/137/app137z2p32.pdf
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314286
     
     
  6. 6.
    0535923 - ÚPT 2021 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Frolec, Jiří
    SMV-2020-25: Emise elektromagnetického záření tenkými zlatými vrstvami při kryogenních teplotách.
    [SMV-2020-25: Emission of electromagnetic radiation by thin gold layers at cryogenic temperatures.]
    Brno: MI-Partners B.V., 2020. 3 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: emissivity * thermal radiation * cryogenics * gold, thin layers
    Obor OECD: Thermodynamics
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0313800
     
     
  7. 7.
    0535190 - ÚPT 2021 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
    Mikmeková, Šárka - Ambrož, Ondřej - Piňos, Jakub
    Přínos moderní rastrovací elektronové mikroskopie pro studium ocelí.
    [Contribution of modern scanning electron microscopy for the study of steels.]
    Jemná mechanika a optika. Roč. 65, č. 6 (2020), s. 171-174. ISSN 0447-6441
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: SEM * characterization of microstructure * TRIP steel * COST F * thin layers and coating
    Obor OECD: Materials engineering
    Způsob publikování: Omezený přístup
    https://jmo.fzu.cz/sites/jmo.fzu.cz/files/oldweb/2020/2020-06/jmo_20_06_obsah.pdf
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0313276
     
     
  8. 8.
    0490103 - FZÚ 2019 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
    Písařík, Petr - Mikšovský, Jan - Remsa, Jan - Zemek, Josef - Tolde, Z. - Jelínek, Miroslav
    Diamond-like carbon prepared by pulsed laser deposition with ion bombardment: physical properties.
    Applied Physics A - Materials Science & Processing. Roč. 124, č. 1 (2018), s. 1-9, č. článku 85. ISSN 0947-8396. E-ISSN 1432-0630
    Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LO1409; GA ČR(CZ) GA15-05864S
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: diamond-like carbon * thin layers * PLD * ion bombardment
    Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
    Impakt faktor: 1.784, rok: 2018
    Způsob publikování: Omezený přístup
    https://doi.org/10.1007/s00339-017-1501-5
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0284395
     
     
  9. 9.
    0483497 - ÚPT 2018 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Král, Stanislav
    SMV-2017-27: Charakterizace vzorků s deponovanými tenkými vrstvami.
    [SMV-2017-27: Characterization of samples with thin layers.]
    Brno: IQ Structures, 2017. 8 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: thin layers * microstructures * optics * e-beam lithography
    Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0278778
     
     
  10. 10.
    0482753 - ÚPT 2018 RIV CZ cze C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Pikálek, Tomáš - Holzer, Jakub - Tinoco, H.A. - Buchta, Zdeněk - Lazar, Josef - Chlupová, Alice - Náhlík, Luboš - Sobota, Jaroslav - Fořt, Tomáš - Kruml, Tomáš
    Interferometrický systém pro měření deformace tenkých membrán.
    [Interferometrical system for bulge test thin film characterization.]
    Sborník příspěvků multioborové konference LASER57. Brno: Ústav přístrojové techniky AV ČR, 2017 - (Růžička, B.), s. 39-40. ISBN 978-80-87441-21-3.
    [LASER57. Třešť (CZ), 08.11.2017-10.11.2017]
    Grant CEP: GA MŠMT ED0017/01/01; GA MŠMT(CZ) LO1212
    Institucionální podpora: RVO:68081731 ; RVO:68081723
    Klíčová slova: interferometry * thin layers
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics); Optics (including laser optics and quantum optics) (UFM-A)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0278470
     
     

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.