Výsledky vyhledávání
- 1.0579329 - FZÚ 2024 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Suman, S. - Sharma, Dhananjay K. - Sain, S. - Szabó, Ondrej - Sethy, S.K. - Rakesh, B. - Balaji, U. - Marton, M. - Vojs, M. - Roy, S.S. - Sakthivel, R. - Sankaran, K.J. - Kromka, Alexander
Nanoscale investigation on the improvement of electrical properties of boron-doped diamond nanostructures for high-performance plasma displays.
ACS Applied Electronic Materials. Roč. 5, č. 9 (2023), s. 4946-4958. E-ISSN 2637-6113
Grant CEP: GA ČR(CZ) GF23-04322L
Výzkumná infrastruktura: CzechNanoLab II - 90251
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: boron-doped diamond * reactive ion etching * diamond nanostructures * emission sites * microplasma illumination
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 4.7, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1021/acsaelm.3c00713
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0348173 - 2.0575662 - ÚPT 2024 RIV CZ cze Z - Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda/plemeno
Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Fořt, Tomáš - Mikel, Břetislav - Helán, R. - Urban, F.
Technologie výroby nelineárních fázových masek.
[The manufacturing process of apodized phase masks.]
Interní kód: APL-2023-03 ; 2023
Technické parametry: Technologie pro výrobu nelineárních fázových masek pro vlnovou délku dopadajícího světla 248 nm pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání do materiálu fused silica. Přesnost zápisu periody mřížky je 0,1 nm, přesnost naladění hloubky mřížky je ±5 nm.
Ekonomické parametry: Ověřená technologie realizovaná při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, Ph.D., kratky@isibrno.cz.
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) FW01010379
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: apodized phase mask * e-beam lithography * reactive ion etching
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0345419 - 3.0570569 - ÚPT 2023 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
Matějka, Milan - Kolařík, Vladimír - Pavlačík, P. - Škoda, D. - Brunn, Ondřej - Sadílek, Jakub
Difraktivní optický element pro realizaci svítícího bodu v záměrném kříži pro puškohledovou optiku.
[Diffractive optical element for creating a illuminated point in a reticle for rifle scopes.]
Jemná mechanika a optika. Roč. 68, č. 4 (2023), s. 87-90. ISSN 0447-6441
Grant CEP: GA MPO(CZ) FV40197
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: diffractive optical elements * electron beam lithography * reactive ion etching * sports optics
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Způsob publikování: Omezený přístup
https://jmo.fzu.cz/sites/jmo.fzu.cz/files/oldweb/2023/2023-04/jmo_23_04_obsah.pdf
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0341873 - 4.0567776 - ÚPT 2023 RIV CZ cze C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Mikel, Břetislav - Helán, R. - Urban, F.
Příprava fázových binárních mřížek pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání pro výrobu optických vláknových senzorů.
[Binary phase masks fabrication using the method of e-beam lithography and reactive ion etching for optical fiber sensors manufacturing.]
LA62. Sborník příspěvků multioborové konference LASER62. Brno: Ústav přístrojové techniky AV ČR, 2022 - (Růžička, B.), s. 43-44. ISBN 978-80-87441-30-5.
[LASER62. Lednice (CZ), 09.11.2022-11.11.2022]
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) FW01010379
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: Binary phase gratings * e-beam lithography * reactive ion etching * optical fiber sensors * diffraction grating
Obor OECD: Electrical and electronic engineering
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0339029 - 5.0566464 - ÚPT 2023 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Venos, Š. - Stoklasa, B. - Kuchařík, J. - Hopp, J. - Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Pokorný, Pavel - Fořt, Tomáš
Difraktivní mnohonásobný dělič svazku s vysokou přesností úhlové distribuce.
[Diffractive beam splitter with high precision of angular distribution.]
Interní kód: APL-2022-08 ; 2022
Technické parametry: Fázový difrakční optický element připravený v materiálu fused silica sloužící jako mnohonásobný dělič svazku s vysokou přesností úhlové distribuce
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Štěpán Venos, stepan.venos@meopta.com
Grant CEP: GA MPO(CZ) FV40197
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: beam splitter * diffractive optical element * e-beam lithography * reactive ion etching
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0337789 - 6.0549960 - ÚPT 2022 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav
SMV-2021-31: TELIGHT zaměřovací obrazec.
[SMV-2021-31: TELIGHT aiming pattern.]
Brno: TELIGHT Brno, s.r.o., 2021. 8 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: e-beam lithography * optics * reactive ion etching
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0325852 - 7.0549311 - ÚPT 2022 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Šimonová, L. - Matějka, Milan - Knápek, Alexandr - Králík, Tomáš - Pokorná, Zuzana - Mika, Filip - Fořt, Tomáš - Man, O. - Škarvada, P. - Otáhal, A. - Čudek, P.
Nanostructures for achieving selective properties of a thermophotovoltaic emitter.
Nanomaterials. Roč. 11, č. 9 (2021), č. článku 2443. E-ISSN 2079-4991
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: thermophotovoltaics * selective emitters * nanostructures * reactive ion etching * emissivity * electron beam lithography
Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Impakt faktor: 5.719, rok: 2021
Způsob publikování: Open access
https://www.mdpi.com/2079-4991/11/9/2443
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0325334 - 8.0539634 - ÚPT 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Škoda, D. - Pavlačík, P. - Proroková, J. - Matějka, Milan - Meluzín, Petr - Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Burda, Daniel
Difraktivní optický element velikosti záměrného bodu vyvazující dopadající záření do 1. difrakčního řádu s využitím ve sportovní a vojenské optice.
[Diffractive optical element of size of aiming point binding incident radiation to the 1st diffraction order with use in sports and military optics.]
Interní kód: APL-2020-23 ; 2020
Technické parametry: Vzorek obsahují řadu difraktivních bodů se submikronovou reliéfní strukturou vytvořenou metodou EBL a Lift-off za účelem vyvázání světla z laserové diody
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Milan Matějka, Ph.D., mmatejka@isibrno.cz
Grant CEP: GA MPO(CZ) FV40197
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: diffractive optical element * e–beam lithography * reactive ion etching
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0317342 - 9.0536665 - ÚPT 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Kolařík, Vladimír - Burda, Daniel
Optický element vyvazující světlo z tenké transparentní podložky.
[An optical element that transmits light from a thin transparent pad.]
Interní kód: APL-2020-10 ; 2020
Technické parametry: Optický element tvořený planární strukturou v tenké vrstvě rezistu nanesené na průhledné podložce. Základním parametrem optického elementu je množství světla vyvedeného pomocí této planární struktury.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Milan Matějka, Ph.D., mmatejka@isibrno.cz
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: diffractive optical element * electron lithography * reactive ion etching * YAG phosphor * thin film deposition * PVD
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314401 - 10.0536218 - ÚPT 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Fořt, Tomáš - Chlumská, Jana - Úlehla, L. - Moťka, L.
Speciální fotomaska pro měření zkreslení rekonstrukce obrazu.
[Special photomask for image distortion measurement of projection optics.]
Interní kód: APL-2020-04 ; 2020
Technické parametry: Motiv kovové masky obsahuje matici přesně velikých čtvercových útvarů sloužících ke kontrole nastavení výrobního procesu
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, kratky@isibrno.cz
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: e–beam lithography * reactive ion etching
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314036