Výsledky vyhledávání
- 1.0583530 - FZÚ 2024 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Novotný, Michal - Fitl, Přemysl - Remsa, Jan - Písařík, Petr - Pokorný, Petr - Bulíř, Jiří - Kmječ, Tomáš - Lančok, Ján - Hlavín, P.
Komora na pokrývání menších předmětů.
[Vacuum chamber for coating of smaller items.]
Interní kód: VK01010022-V3 ; 2023
Technické parametry: Válcová komora s průměrem 320 mm a délkou 450 mm. Komora je vybavena ISO-K přírubami: 2x DN 320, 6x DN 100 a ISO-KF: 3x DN 25. Čerpací systém - rotační olejová a turbomolekulární vývěva.
Ekonomické parametry: Komora bude sloužit v kriminalistické praxi v oboru daktyloskopie na KÚ Policie ČR.
Grant CEP: GA MV(CZ) VK01010022
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: vacuum chamber * dactyloscopy * magnetron sputtering * planetary rotating holder
Obor OECD: Mechanical engineering
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0351545 - 2.0582298 - ÚFCH JH 2025 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
Krýsová, Hana - Mansfeldová, Věra - Tarábková, Hana - Písaříková, Aneta - Hubička, Zdeněk - Kavan, Ladislav
High-quality dense ZnO thin films: work function and photo/electrochemical properties.
Journal of Solid State Electrochemistry. (2024). ISSN 1432-8488. E-ISSN 1433-0768
Grant CEP: GA ČR GA22-24138S
Institucionální podpora: RVO:61388955 ; RVO:68378271
Klíčová slova: atomic layer deposition * mott-schottky analysis * doped zno * tio2 * rf * crystalline * growth * oxide * al * Zinc oxide * Mott-Schottky analysis * Kelvin probe * Photoelectrochemistry * Spray pyrolysis * Reactive magnetron sputtering
Obor OECD: Electrochemistry (dry cells, batteries, fuel cells, corrosion metals, electrolysis)
Impakt faktor: 2.5, rok: 2022
Způsob publikování: Open access
https://link.springer.com/article/10.1007/s10008-023-05766-6
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0350413 - 3.0581746 - FZÚ 2024 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Čurda, P. - Hippler, Rainer - Čada, Martin - Kylián, O. - Straňák, V. - Hubička, Zdeněk
The role of dimers in the efficient growth of nanoparticles.
Surface and Coatings Technology. Roč. 473, Nov. (2023), č. článku 130045. ISSN 0257-8972
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: dimer * nanoparticle * gas aggregation nucleation * magnetron sputtering * energy-resolved mass spectrometry
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 5.4, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2023.130045
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0349903 - 4.0580361 - ÚPT 2024 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Materna Mikmeková, Eliška - Fořt, Tomáš - Souček, P.
Prototyp optického prvku č. 1 s povrchovou úpravou.
[Prototype of optical element #1 with surface treatment.]
Interní kód: APL-2023-08 ; 2023
Technické parametry: POLYETERETERKETON (PEEK) byl použit na výrobu optické části tubusu elektronového mikroskopu. Optický prvek byl vylepšen nanesením tenké kovové vrstvy (Al, Cr, W) pomocí magnetronového naprašování.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu slouží k výzkumným účelům. Funkční vzorek byl realizován pro konkrétní zařízení, a proto nedochází k přímému prodeji vzorku. Finanční vyčíslení případné prodejní ceny vychází z nákladů na vývoj, materiál, výrobu a přiměřený zisk. Kontakt: Mgr. Eliška Materna Mikmeková, Ph.D., MBA, eliska@isibrno.cz.
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN02000020
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: optical elements * PEEK * SEM * magnetron sputtering
Obor OECD: Electrical and electronic engineering
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0349151 - 5.0577303 - FZÚ 2024 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Písaříková, Aneta - Olejníček, Jiří - Venkrbcová, Ivana - Nožka, L. - Cichoň, Stanislav - Azinfar, A. - Hippler, Rainer - Helm, C.A. - Mašláň, M. - Machala, L. - Hubička, Zdeněk
CuFeO2 prepared by electron cyclotron wave resonance-assisted reactive HiPIMS with two magnetrons and radio frequency magnetron sputtering.
Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films. Roč. 41, č. 6 (2023), č. článku 063005. ISSN 0734-2101. E-ISSN 1520-8559
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Výzkumná infrastruktura: CzechNanoLab II - 90251
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: ECWR * magnetron sputtering * RF
Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Impakt faktor: 2.9, rok: 2022
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0346510Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0577303.pdf 0 5.5 MB CC licence Vydavatelský postprint povolen - 6.0574651 - FZÚ 2024 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Antunes, V.G. - Rudolph, M. - Kapran, Anna - Hajihoseini, H. - Raadu, M.A. - Brenning, N. - Gudmundsson, J.T. - Lundin, D. - Minea, T.
Influence of the magnetic field on the extension of the ionization region in high power impulse magnetron sputtering discharges.
Plasma Sources Science & Technology. Roč. 32, č. 7 (2023), č. článku 075016. ISSN 0963-0252. E-ISSN 1361-6595
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: magnetron sputtering * HiPIMS * ionization region * magnetic field * optical emission spectroscopy
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 3.8, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1088/1361-6595/ace847
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0349495 - 7.0573076 - FZÚ 2024 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Hippler, Rainer - Čada, Martin - Mutzke, A. - Hubička, Zdeněk
Pulse length dependence of a reactive high power impulse magnetron (HiPIMS) discharge.
Plasma Sources Science & Technology. Roč. 32, č. 5 (2023), č. článku 055013. ISSN 0963-0252. E-ISSN 1361-6595
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: high power impulse magnetron sputtering * reactive mode * pulse length dependence * ion composition * optical emission spectroscopy
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 3.8, rok: 2022
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0346388Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0573076.pdf 0 2.5 MB CC licence Vydavatelský postprint povolen - 8.0570735 - FZÚ 2024 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Kratochvílová, Irena - Celbová, Lucie - Ashcheulov, Petr - Kopeček, Jaromír - Klimša, Ladislav - de Prado, Esther - Aubrechtová Dragounová, Kateřina - Luštinec, Jakub - Macák, J. - Sajdl, P. - Škoda, R. - Bulíř, Jiří
Polycrystalline diamond and magnetron sputtered chromium as a double coating for accident-tolerant nuclear fuel tubes.
Journal of Nuclear Materials. Roč. 578, May (2023), č. článku 154333. ISSN 0022-3115. E-ISSN 1873-4820
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA TA ČR TK02030069
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Výzkumná infrastruktura: CzechNanoLab II - 90251
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: polycrystalline diamond coating * Cr magnetron sputtering * nuclear fuel tubes * hot steam corrosion
Obor OECD: Materials engineering
Impakt faktor: 3.1, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.jnucmat.2023.154333
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0342072 - 9.0569054 - FZÚ 2023 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
More Chevalier, Joris - Bulíř, Jiří - Novotný, Michal - Fitl, Přemysl - Lančok, Ján - Pokorný, Petr - Musil, Jindřich
Magnetronová hlava pro naprašování povlaků černých kovů.
[Magnetron sputter head for black metal coating.]
Interní kód: Magnetronová hlava pro naprašováni černých kovů ; 2022
Technické parametry: Magnetronová hlava tvaru obdélníkové katody o rozměrech 9 cm x 15 cm, Vodou chlazený terč s rozměry 7 cm x 14 cm, Limitní výkon magnetronu 1000 W, tlak pracovního plynu (argon) 0,5 Pa
Ekonomické parametry: 200 000 Kč
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TP01010035
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: magnetron sputtering * metal * black metal
Obor OECD: Coating and films
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0340910 - 10.0567523 - FZÚ 2023 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Mareš, P. - Dubau, M. - Polášek, J. - Mates, Tomáš - Kozák, T. - Vyskočil, J.
High deposition rate films prepared by reactive HiPIMS.
Vacuum. Roč. 191, Sep (2021), č. článku 110329. ISSN 0042-207X. E-ISSN 1879-2715
Grant CEP: GA MŠMT LM2018110; GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA MPO FV30177
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760; AV ČR(CZ) StrategieAV21/6
Program: StrategieAV
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: reactive magnetron sputtering * HiPIMS * Monte-carlo simulations * deposition rate * sputtering yield
Obor OECD: Coating and films
Impakt faktor: 4.110, rok: 2021
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2021.110329
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0338777