Výsledky vyhledávání
- 1.0543177 - MBÚ 2022 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Buchroithner, B. - Spurný, Pavel - Mayr, S. - Heitz, J. - Sivun, D. - Jacak, J. - Ludwig, Jost
An Improved Transwell Design for Microelectrode Ion-Flux Measurements.
Micromachines. Roč. 12, č. 3 (2021), č. článku 273. E-ISSN 2072-666X
GRANT EU: European Commission ATCZ14
Výzkumná infrastruktura: CENAKVA - 90099
Institucionální podpora: RVO:61388971
Klíčová slova: multiphoton lithography * biocompatible polymers * BisSR * HUVECs * mife * ion flux
Obor OECD: Biophysics
Impakt faktor: 3.523, rok: 2021
Způsob publikování: Open access
https://www.mdpi.com/2072-666X/12/3/273
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0320450 - 2.0536967 - MBÚ 2023 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Shamayeva, Katsiaryna - Spurná, Karin - Kulik, Natalia - Kale, Deepika - Munko, Oksana - Spurný, Pavel - Zayats, Vasilina - Ludwig, Jost
MPM motifs of the yeast SKT protein Trk1 can assemble to form a functional K+-translocation system.
Biochimica Et Biophysica Acta-Biomembranes. Roč. 1863, č. 2 (2021), č. článku 183513. ISSN 0005-2736. E-ISSN 1879-2642
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA16-19221S
Výzkumná infrastruktura: CESNET II - 90042; CERIT-SC - 90085
Institucionální podpora: RVO:61388971
Klíčová slova: Bimolecular Fluorescence Complementation – BiFC * K+-transport * Microelectrode based Ion Flux Estimation - MIFE * Saccharomyces cerevisiae
Obor OECD: Microbiology
Impakt faktor: 4.019, rok: 2021
Způsob publikování: Omezený přístup
https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0005273620303564
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314723 - 3.0533965 - FZÚ 2021 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Hajihoseini, H. - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Ünaldi, S. - Raadu, M.A. - Brenning, N. - Gudmundsson, J.T. - Lundin, D.
Sideways deposition rate and ionized flux fraction in dc and high power impulse magnetron sputtering.
Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films. Roč. 38, č. 3 (2020), s. 1-11, č. článku 033009. ISSN 0734-2101. E-ISSN 1520-8559
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR GA19-00579S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: plasma * ion flux * HiPIMS * sputtering
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 2.427, rok: 2020
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1116/1.5145292
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0312189 - 4.0472490 - ÚCHP 2017 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Kment, Š. - Čada, M. - Hubička, Z. - Krýsa, J. - Kmentová, Hana - Olejníček, J. - Zlámalová Cílová, Z. - Zbořil, R.
Role of Ion Bombardment, Film Thickness and Temperature of Annealing on PEC Activity of Very-thin Film Hematite .
International Journal of Hydrogen Energy. Roč. 41, č. 27 (2016), s. 11547-11557. ISSN 0360-3199. E-ISSN 1879-3487.
[International Conference on Hydrogen Energy /1./. Aveiro, 20.07.2015-22.07.2015]
Institucionální podpora: RVO:67985858
Klíčová slova: ion flux density * hematite photoanode * thin films
Kód oboru RIV: CF - Fyzikální chemie a teoretická chemie
Impakt faktor: 3.582, rok: 2016
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0269792Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0472490.pdf 0 2.1 MB Autorský postprint povolen - 5.0464208 - FZÚ 2017 RIV DE eng A - Abstrakt
Čada, Martin - Lundin, D. - Hubička, Zdeněk
Direct measurements of the ion flux at the substrate in reactive HiPIMS.
International Conference on Plasma Surface Engineering. Abstracts. ( PSE 2016 ) /15./. Braunschweig: European Joint Committee on Plasma and Ion Surface Engineering (EJC / PISE), 2016. s. 415-415.
[International Conference on Plasma Surface Engineering ( PSE 2016 ). 12.09.2016-16.09.2016, Garmisch-Partenkirchen]
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA15-00863S; GA TA ČR TA03010743
GRANT EU: European Commission(XE) 608800 - HIPPOCAMP
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: HiPIMS * impedance * ion flux * reactive sputtering
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0263191 - 6.0463465 - ÚFM 2017 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Souček, P. - Buršíková, V. - Zábranský, L. - Buršík, Jiří - Vašina, P.
Deposition of Hard Yet Moderately Ductile MoBC Coatings by p-DC Magnetron Sputtering.
Potential Application of Plasma and Nanomaterials 2015: Book of Contributed Papers. Brno: Masarykova Univerzita, 2015, s. 68-71. ISBN 978-80-210-8053-9.
[PAPN 2015 - Potential Application of Plasma and Nanomaterials 2015. Brno (CZ), 12.11.2015-13.11.2015]
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA15-17875S
Institucionální podpora: RVO:68081723
Klíčová slova: magnetron sputtering * ion flux * nanolaminates
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0262957 - 7.0431164 - ÚFM 2015 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Souček, P. - Schmidtová, T. - Zábranský, L. - Buršíková, V. - Vašina, P. - Caha, O. - Buršík, Jiří - Peřina, Vratislav - Mikšová, Romana - Pei, Y. - de Hosson, J. T. M.
On the control of deposition process for enhanced mechanical properties of nc-TiC/a-C: H coatings with DC magnetron sputtering at low or high ion flux.
Surface and Coatings Technology. Roč. 255, 25 September (2014), s. 8-14. ISSN 0257-8972
Institucionální podpora: RVO:68081723 ; RVO:61389005
Klíčová slova: enhanced mechanical properties * ion flux on the substrate * magnetron sputtering
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Impakt faktor: 1.998, rok: 2014
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0235798 - 8.0429387 - FZÚ 2015 RIV cze P - Patentový dokument
Adámek, Petr - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Jastrabík, Lubomír - Adámek, Jiří - Stöckel, Jan
Způsob měření iontové distribuční funkce v nízkoteplotním plazmatu, měřicí systém pro provádění tohoto způsobu a sonda pro měřicí systém.
[A method for measuring the ion distribution function in a low temperature plasma, a measuring system for implementing the method and the probe for measuring system.]
2014. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i - Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i. Datum udělení patentu: 16.04.2014. Číslo patentu: 304493
Grant CEP: GA TA ČR TA01010517
Institucionální podpora: RVO:68378271 ; RVO:61389021
Klíčová slova: Katsumata probe * ion flux * ion energy distribution function * magnetic field
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
http://isdv.upv.cz/portal/pls/portal/portlets.pts.det?xprim=1760204&lan=cs
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0234521 - 9.0428200 - ÚJF 2015 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Souček, P. - Schmidtová, T. - Bursíková, V. - Vašina, P. - Pei, Y. - De Hos, J. Th. M. - Caha, O. - Peřina, Vratislav - Mikšová, Romana - Malinský, Petr
Tribological properties of nc-TiC/a-C:H coatings prepared by magnetron sputtering at low and high ion bombardment of the growing film.
Surface and Coatings Technology. Roč. 241, FEB (2014), s. 64-73. ISSN 0257-8972
Grant CEP: GA MŠMT(XE) LM2011019; GA ČR(CZ) GD104/09/H080
Institucionální podpora: RVO:61389005
Klíčová slova: nanocomposites * magnetron sputtering * Titanium carbide * ion flux * friction * wear
Kód oboru RIV: BG - Jaderná, atomová a mol. fyzika, urychlovače
Impakt faktor: 1.998, rok: 2014
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0233606 - 10.0424549 - FZÚ 2014 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Adámek, Petr - Kment, Štěpán - Olejníček, Jiří
Aparatura pro měření toků neutrálních a ionizovaných částic na substrát v nízkoteplotním plazmatu.
[An apparatus for neutral and ion flux measurement on substrate in a low-temperature plasma.]
Interní kód: IONEU2013 ; 2013
Technické parametry: Vyvinutá aparatura umožňuje měřit tok (depoziční rychlost) neutrálních nebo nabitých částic na substrát. K tomuto účelu je využito QCM čidlo s možností přivedení předpětí opatřené vhodně zvoleným magneickým polem na vstupu QCM čidla
Ekonomické parametry: Snížení pořizovacích nákladů na přístrojové vybavení.
Grant CEP: GA TA ČR TA01010517
Grant ostatní: AVČR(CZ) M100101215
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: deposition rate * neutral/ion flux ratio * magnetic field * QCM sensor
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0230613