Výsledky vyhledávání
- 1.0555890 - FZÚ 2023 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Olejníček, Jiří - Hrubantová, Aneta - Volfová, Lenka - Dvořáková, Michaela - Kohout, Michal - Tvarog, Drahoslav - Gedeon, O. - Wulff, H. - Hippler, Rainer - Hubička, Zdeněk
WO3 and WO3-x thin films prepared by DC hollow cathode discharge.
Vacuum. Roč. 195, Jan (2022), č. článku 110679. ISSN 0042-207X. E-ISSN 1879-2715
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S; GA MPO FV20580
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: tungsten oxide * WO3 * hollow cathode discharge * sputtering * thin films
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 4, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2021.110679
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0330352 - 2.0552302 - FZÚ 2022 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Hippler, Rainer - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk
A positively biased external anode for energy control of plasma ions: hollow cathode and magnetron sputtering discharge.
Plasma Sources Science & Technology. Roč. 30, č. 4 (2021), č. článku 045003. ISSN 0963-0252. E-ISSN 1361-6595
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA MPO FV20580; GA ČR GA19-00579S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: hollow cathode discharge * magnetron sputtering discharge * positively biased anode * Langmuir probe diagnostics * energy-resolved ion mass spectrometry
Obor OECD: Coating and films
Impakt faktor: 4.124, rok: 2021
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0327434Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0552302.pdf 1 2.3 MB CC Licence Vydavatelský postprint povolen - 3.0550970 - FZÚ 2022 RIV eng P - Patentový dokument
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Kšírová, Petra - Klinger, Miloslav
Method of low-temperature plasma generation, method of an electrically conductive or ferromagnetic tube coating using pulsed plasma and corresponding devices.
2021. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Datum udělení patentu: 10.03.2021. Číslo patentu: EP3788181A1
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: thin films * hollow cathode discharge * deposition * RF plasma * pulsed plasma * hollow tube
Obor OECD: Coating and films
https://worldwide.espacenet.com/patent/search/family/063713983/publication/EP3788181A1?q=EP3788181A1
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0326291 - 4.0550774 - FZÚ 2022 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Straňák, V. - Olejníček, Jiří - Kohout, Michal - Jetmar, Tomáš - Šmíd, Jiří - Sezemský, P. - Rozhoň, P. - Čurda, P. - Hubička, Zdeněk - Čtvrtlík, R. - Hrabovský, M. - Schovánek, P.
Optimalizované multivrstvé plazmatické povlaky vnitřních prostor dlouhých trubic.
[Optimized multilayer plasma coatings of interiors of long tubes.]
Interní kód: FVNCK2/FZU-JU-UPOL/2021 ; 2021
Technické parametry: Ohřev povlakované trubice: výkon: 4x120W lineární halogenová žárovka max teplota: 500 st C b) RF výboj - výkon: dle podmínek 50 – 200 W - frekvence: 13.56 MHz - indukční oddělení: feritový transformátor, rezonanční vzduchový transformátor c) HiPPS výboj - pulzní modulace: 1000 Hz opakovací frekvence, 100 μs šířka pulzu - střední dc výkon: 150 W (při napětí v pulzu cca – 330 V) d) depoziční proces - tlak:1 Pa (v depoziční komoře) - průtok plynu: cca 100 sccm (celkový průtok) - pracovní plyn:směs argonu a dusíku Ar/N2 = 100/0 – 50/50 - teplota katody: 800 – 1250 0C - depozit: Cr/CrN/CrN Maximální tvrdost povlaku: 11.5 GPa Maximání mechanické zatížení (scratch test): 450 mN.
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum.
Grant CEP: GA TA ČR TN01000038
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: thin films * multilayers * hard coating * hollow cathode discharge * hardness * deposition
Obor OECD: Materials engineering
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0326097 - 5.0537052 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Olejníček, Jiří - Kohout, Michal - Jetmar, Tomáš - Šmíd, Jiří - Sezemský, P. - Rozhoň, P. - Straňák, Vítězslav - Hubička, Zdeněk - Hrabovský, M. - Schovánek, Petr
Funkční vzorek součástí chráněné otěruvzdorným povlakem vhodným pro vysokou mechanickou a tepelnou zátěž.
[Functional sample of part protected with antiabrasive and anticorrosion coating suitable for high mechanical and thermal loads.]
Interní kód: FVNCK1/FZU-JU-UPOL/2020 ; 2020
Technické parametry: Předkládaný funkční vzorek představuje koncepční řešení pro depozice tvrdých, antiabrazivních vrstev (CrN) na vnitřní stěny dlouhých trubic s malým vnitřním průměrem.
Ekonomické parametry: Byla vyvinuta technologie průmyslového povlakování vnitřku dlouhých ocelových trubic tvrdým adhezivním otěruvzdorným povlakek a tento díl byl otestován a nabídnut průmyslovému partnerovi.
Grant CEP: GA TA ČR TN01000038
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: hollow cathode discharge * thin films * tube * CrN * Cr
Obor OECD: Materials engineering
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314804 - 6.0524998 - FZÚ 2021 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Olejníček, Jiří - Šmíd, Jiří - Čada, Martin - Kšírová, Petra - Kohout, Michal - Perekrestov, Roman - Tvarog, D. - Kment, Štěpán - Kmentová, H. - Hubička, Zdeněk
High rate deposition of photoactive TiO2 films by hot hollow cathode.
Surface and Coatings Technology. Roč. 383, Feb (2020), s. 1-10, č. článku 125256. ISSN 0257-8972
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA MŠMT EF16_013/0001406; GA ČR GA17-20008S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760; OP VVV - SAFMAT(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_013/0001406
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: TiO2 * hollow cathode discharge * sputtering * thermal evaporation * deposition rate
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 4.158, rok: 2020
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2019.125256
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0309201 - 7.0520354 - FZÚ 2020 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Olejníček, Jiří - Šmíd, Jiří - Perekrestov, Roman - Kšírová, P. - Rathouský, Jiří - Kohout, Michal - Dvořáková, M. - Kment, Štěpán - Jurek, Karel - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk
Co3O4 thin films prepared by hollow cathode discharge.
Surface and Coatings Technology. Roč. 366, May (2019), s. 303-310. ISSN 0257-8972
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR GA17-08389S; GA MŠMT(CZ) LO1409
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271 ; RVO:61388955
Klíčová slova: cobalt oxide * Co3O4 * hollow cathode discharge * magnetron sputtering * thin films
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics); Physical chemistry (UFCH-W)
Impakt faktor: 3.784, rok: 2019
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2019.03.010
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0305035Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0520354.pdf 1 3.3 MB Vydavatelský postprint vyžádat - 8.0500943 - FZÚ 2019 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Hubička, Zdeněk
Plazmatický povlakovací systém dlouhých elektricky vodivých trubic.
[Plasma deposition system for long electrically conductive tubes.]
Praha, 2018. 5 s.
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TG02010056
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: plasma * hollow cathode discharge * thin film
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0293028 - 9.0465021 - FZÚ 2017 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Šmíd, Jiří - Olejníček, Jiří - Hubička, Zdeněk - Čada, Martin
Vícetryskový PVD depoziční systém.
[Multijet PVD deposition system.]
Interní kód: UHV-4DK/FZU2016 ; 2016
Technické parametry: Výsledek je tvořen UHV systémem čerpaným rotační a turbomolekulární vývěvou a obsahuje 4 lineární plazmové trysky pracující na principu výboje v duté katodě. Systém je průběžně upgradován. Ve spouštěcí konfi-guraci měl následující technické parametry: mezní tlak p0: 1x10-3 Pa, pracovní tlak pw: 0.1 – 100 Pa, maximální napětí na zdroji: Um: 600 V, maximální výbojový proud: Im: 5 A, příčný rozměr substrátu lm: až 20 cm, maximální depoziční rychlost dosažená pro TiO2 vrstvy rm: 20 μm/hod.
Ekonomické parametry: Vyvinutý depoziční systém umožňuje vysokorychlostní depozici homogenních oxidových vrstev. Oproti dostupným komerčním magnetronovým systémům dosahuje v DC režimu až desetinásobnou depoziční rychlost.
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TF01000084
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: hollow cathode discharge * multi plasma-jet * thin films * PVD * sputtering
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0263763 - 10.0133852 - FZU-D 20020031 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
Touš, Jan - Šícha, Miloš - Hubička, Zdeněk - Soukup, Ladislav - Jastrabík, Lubomír - Čada, Martin - Tichý, M.
The radio frequency hollow cathode discharge induced by the RF discharge in the plasma-jet chemical reactor.
Contributions to Plasma Physics. Roč. 42, č. 1 (2002), s. 119-131. ISSN 0863-1042. E-ISSN 1521-3986
Grant CEP: GA ČR GA202/00/1592
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z1010914
Klíčová slova: hollow cathode discharge * supersonic plasma jet * sputtering
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Impakt faktor: 0.804, rok: 2002
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0031806