Výsledky vyhledávání
- 1.0549399 - ÚPT 2022 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Stopka, Jan - Zuidema, W. - Kruit, P.
Trajectory displacement in a multi beam scanning electron microscope.
Ultramicroscopy. Roč. 223, April (2021), č. článku 113223. ISSN 0304-3991. E-ISSN 1879-2723
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TE01020118; GA MŠMT(CZ) LO1212; GA MŠMT ED0017/01/01
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: Trajectory displacement * Multi-beam electron microscope * Coulomb interactions * Slice method * Electron optics
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Impakt faktor: 2.994, rok: 2021
Způsob publikování: Open access
https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S030439912100019X
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0325417 - 2.0534937 - ÚPT 2021 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Stopka, Jan
Analytical formulae for trajectory displacement in electron beam and generalized slice method.
Ultramicroscopy. Roč. 217, OCT (2020), č. článku 113050. ISSN 0304-3991. E-ISSN 1879-2723
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TE01020118; GA MŠMT(CZ) LO1212; GA MŠMT ED0017/01/01
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: coulomb interaction * trajectory displacement * electron optics * slice method * Holtzmark regime * pencil-beam regime
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Impakt faktor: 2.689, rok: 2020
Způsob publikování: Omezený přístup
https://www.sciencedirect.com/science/article/abs/pii/S0304399120302011
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0313066 - 3.0525191 - ÚPT 2021 RIV SK eng J - Článek v odborném periodiku
Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Řiháček, Tomáš - Knápek, Alexandr - Kolařík, Vladimír
Functional nano-structuring of thin silicon nitride membranes.
Journal of Electrical Engineering - Elektrotechnický časopis. Roč. 71, č. 2 (2020), s. 127-130. ISSN 1335-3632. E-ISSN 1339-309X
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008; GA MŠMT ED0017/01/01
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: membrane * nano optical device * electron optics * electron beam lithography * silicon nitride * reactive ion etching * silicon etching * microfabrication
Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
Impakt faktor: 0.647, rok: 2020
Způsob publikování: Open access
https://content.sciendo.com/view/journals/jee/71/2/article-p127.xml
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0309382 - 4.0524976 - ÚPT 2021 RIV SG eng J - Článek v odborném periodiku
Stopka, Jan - Kruit, P.
Statistical Coulomb interactions in multi-beam SEM.
International Journal of Modern Physics. A. Roč. 34, č. 36 (2019), č. článku 1942021. ISSN 0217-751X. E-ISSN 1793-656X
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TE01020118; GA MŠMT(CZ) LO1212; GA MŠMT ED0017/01/01
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: coulomb interactions * trajectory displacement * multi-beam SEM * electron optics * slice method
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Impakt faktor: 1.486, rok: 2019
Způsob publikování: Omezený přístup
https://www.worldscientific.com/doi/10.1142/S0217751X19420211
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0309187 - 5.0518486 - ÚPT 2020 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Radlička, Tomáš
SMV-2019-64: Cs korektor realizovaný pomocí kombinace anulární a kruhové apertury.
[SMV-2019-64: Circular annular Cs Corrector.]
Brno: Thermo Fisher Scientific Brno s.r.o., 2019. 2 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: electron optics * Cs corrector * resolutions
Obor OECD: Electrical and electronic engineering
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0303620 - 6.0508150 - ÚPT 2020 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Radlička, Tomáš
Correction of parasitic aberrations of hexapole corrector using differential algebra method.
Ultramicroscopy. Roč. 204, SEP (2019), s. 81-90. ISSN 0304-3991. E-ISSN 1879-2723
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TE01020118; GA MŠMT(CZ) LO1212; GA MŠMT ED0017/01/01
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: electron optics * correctors * aberrations * differential algebra method
Obor OECD: Electrical and electronic engineering
Impakt faktor: 2.452, rok: 2019
Způsob publikování: Omezený přístup
https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S030439911930035X?via%3Dihub
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0299133 - 7.0499163 - ÚPT 2019 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Radlička, Tomáš
SMV-2018-21: Výpočet optiky XPS zdroje.
[SMV-2018-21: Calculation of electron optical properties of XPS source.]
Brno: FEI CZECH REPUBLIC, 2018. 5 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: thermoemionic electron gun * space-charge * electron optics
Obor OECD: Communication engineering and systems
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0291422 - 8.0491708 - ÚPT 2019 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Radlička, Tomáš - Unčovský, M. - Oral, Martin
In lens BSE detector with energy filtering.
Ultramicroscopy. Roč. 189, JUN (2018), s. 102-108. ISSN 0304-3991. E-ISSN 1879-2723
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TE01020118; GA MŠMT(CZ) LO1212; GA MŠMT ED0017/01/01
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: electron optics * scanning electron microscopy * back scattered electrons * energy filtering
Obor OECD: Electrical and electronic engineering
Impakt faktor: 2.644, rok: 2018
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0285349 - 9.0487293 - FZÚ 2018 US eng A - Abstrakt
Wunderlich, J. - Janda, T. - Roy, P.E. - Ramsay, A.J. - Otxoa, R.M. - Irvine, A.C. - Jungwirth, Tomáš - Něměc, P. - Gallagher, B. L. - Campion, R. P.
Piezoelectric and photon helicity dependent domain wall motion driven by electrical current and optical spin transfer torques.
IEEE International Magnetics Conference (INTERMAG 2015). Piscataway: IEEE Inc., 2015. ISBN 978-1-4799-7321-7. ISSN 2150-4598. E-ISSN 2150-4601.
[IEEE International Magnetics Conference (Intermag) 2015. 11.05.2015-15.05.2015, Peking]
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: electron optics * optical films * optical polarization * physics * magnetic domain walls * photonics
Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0281947 - 10.0468460 - ÚPT 2017 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Radlička, Tomáš
SMV-2016-21: DA modul pro EOD.
[SMV-2016-21: DA modul for EOD.]
Brno: Ing. Jakub Zlámal, Ph.D., 2016. 4 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: electron optics * differential algebraic method
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0266309