Výsledky vyhledávání

  1. 1.
    0549311 - ÚPT 2022 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
    Šimonová, L. - Matějka, Milan - Knápek, Alexandr - Králík, Tomáš - Pokorná, Zuzana - Mika, Filip - Fořt, Tomáš - Man, O. - Škarvada, P. - Otáhal, A. - Čudek, P.
    Nanostructures for achieving selective properties of a thermophotovoltaic emitter.
    Nanomaterials. Roč. 11, č. 9 (2021), č. článku 2443. E-ISSN 2079-4991
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: thermophotovoltaics * selective emitters * nanostructures * reactive ion etching * emissivity * electron beam lithography
    Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
    Impakt faktor: 5.719, rok: 2021
    Způsob publikování: Open access
    https://www.mdpi.com/2079-4991/11/9/2443
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0325334
     
     
  2. 2.
    0544775 - ÚPT 2022 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
    Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Meluzín, Petr - Kopal, Jaroslav - Brunn, Ondřej - Fordey, T. - Schovánek, P.
    Specializovaná fotomaska pro měření projekční optiky.
    [Special photomask for wavefront measurement of projection optics.]
    Interní kód: APL-2021-04 ; 2021
    Technické parametry: Rozměry vzorku: disk o průměru 20 mm tloušťky 0,6 mm. Mezní rozlišení vzorku: 511,36 nm.
    Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Ondřej Brunn, brunn@isibrno.cz
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: electron beam lithography * photomask
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0321586
     
     
  3. 3.
    0544061 - ÚPT 2022 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
    Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Matějka, Milan - Burda, Daniel - Ondříšková, Martina - Lalinský, Ondřej - Horodyský, P.
    Litografická maska.
    [Lithographic mask.]
    Interní kód: APL-2021-03 ; 2021
    Technické parametry: Základními technickými parametry jsou perioda mřížky a procentuální pokrytí maskovací vrstvy.
    Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Bc. Jana Chlumská, chlumska@isibrno.cz
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: electron beam lithography * photomask
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0321117
     
     
  4. 4.
    0543745 - ÚPT 2022 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Chlumská, Jana - Lalinský, Ondřej - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír
    Patterning of conductive nano-layers on garnet.
    NANOCON 2020. 12th International Conference on Nanomaterials - Research & Application. Conference proceedings. Ostrava: TANGER, 2021, (2021), s. 221-224. ISBN 978-80-87294-98-7. ISSN 2694-930X.
    [International Conference NANOCON 2020 /12./. Brno (CZ), 21.10.2020-23.10.2020]
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: Electron beam lithography * nano-patterning * yttrium aluminium garnet
    Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
    https://www.confer.cz/nanocon/2020/3731-patterning-of-conductive-nano-layer-on-garnet
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0320902
     
     
  5. 5.
    0535207 - ÚPT 2021 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
    Knápek, Alexandr - Horáček, Miroslav - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Brunn, Ondřej - Burda, Daniel - Kolařík, Vladimír
    Vlastnosti kvaziperiodických spirálových mikrostruktur.
    [Properties of quasiperiodic spiral microstrictures.]
    Jemná mechanika a optika. Roč. 65, č. 6 (2020), s. 175-178. ISSN 0447-6441
    Grant CEP: GA MV(CZ) VI20192022147
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: planar phyllotactit model * electron beam lithography * diffractive optically variable image device
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Způsob publikování: Omezený přístup
    https://jmo.fzu.cz/sites/jmo.fzu.cz/files/oldweb/2020/2020-06/jmo_20_06_obsah.pdf
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0313290
     
     
  6. 6.
    0525191 - ÚPT 2021 RIV SK eng J - Článek v odborném periodiku
    Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Řiháček, Tomáš - Knápek, Alexandr - Kolařík, Vladimír
    Functional nano-structuring of thin silicon nitride membranes.
    Journal of Electrical Engineering - Elektrotechnický časopis. Roč. 71, č. 2 (2020), s. 127-130. ISSN 1335-3632. E-ISSN 1339-309X
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008; GA MŠk ED0017/01/01
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: membrane * nano optical device * electron optics * electron beam lithography * silicon nitride * reactive ion etching * silicon etching * microfabrication
    Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
    Impakt faktor: 0.647, rok: 2020
    Způsob publikování: Open access
    https://content.sciendo.com/view/journals/jee/71/2/article-p127.xml
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0309382
     
     
  7. 7.
    0512151 - ÚPT 2020 JO eng A - Abstrakt
    Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Krátký, Stanislav - Řiháček, Tomáš - Knápek, Alexandr - Kolařík, Vladimír
    Fabrication of functional nanostructures in thin silicon nitride membranes.
    Fourth International Symposium on Dielectric Materials and Applications (ISyDMA 4). Book of Abstracts. Amman: Jordan University of Science & Technology, 2019.
    [The Fourth International Symposium on Dielectric Materials and Applications (ISyDMA 4). 02.05.2019-04.05.2019, Amman]
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: thin dielectric layers * silicon nitride * membranes * electron beam lithography
    Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0302363
     
     
  8. 8.
    0501458 - ÚPT 2020 RIV SK eng J - Článek v odborném periodiku
    Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Knápek, Alexandr - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Meluzín, Petr
    Spiral arrangement: From nanostructures to packaging.
    Journal of Electrical Engineering - Elektrotechnický časopis. Roč. 70, č. 1 (2019), s. 74-77. ISSN 1335-3632. E-ISSN 1339-309X
    Grant CEP: GA MPO FV10618; GA TA ČR TG03010046; GA TA ČR TE01020233; GA MŠk(CZ) LO1212; GA MŠk ED0017/01/01
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: electron beam lithography * phyllotaxis * spiral arrangement * parastichy
    Obor OECD: Electrical and electronic engineering
    Impakt faktor: 0.686, rok: 2019
    Způsob publikování: Open access
    https://content.sciendo.com/view/journals/jee/70/1/article-p74.xml?lang=en
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0293484
     
     
  9. 9.
    0495256 - ÚPT 2019 CZ eng A - Abstrakt
    Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Knápek, Alexandr - Kolařík, Vladimír
    Spiral Arrangement: from Nanostructures to Packaging.
    IMAPS Flash Conference. 4th Interrnational Microelectronics Assembly and Packaging Society Flash Conference. Book of Abstracts. Brno: University of Technbology Brno, 2018. s. 62-63. ISBN 978-80-214-5680-8.
    [IMAPS Flash Conference. Interrnational Microelectronics Assembly and Packaging Society Flash Conference /4./. 25.10.2018-26.10.2018, Brno]
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: electron beam lithography * phyllotaxis * spiral arrangement * parastichy
    Obor OECD: Electrical and electronic engineering
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0288490
     
     
  10. 10.
    0494364 - ÚPT 2019 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Horáček, Miroslav - Knápek, Alexandr - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Urbánek, M. - Mika, Filip - Kolařík, Vladimír
    Hiding e-beam exposure fields by deterministic 2D pattering.
    Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation. Proceedings of the 16th International Seminar. Brno: Institute of Scientific Instruments The Czech Academy of Sciences, 2018, s. 36-37. ISBN 978-80-87441-23-7.
    [Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation. Skalský dvůr (CZ), 04.06.2018-08.06.2018]
    Grant CEP: GA TA ČR TE01020233; GA TA ČR TG03010046; GA MŠk(CZ) LO1212; GA MŠk ED0017/01/01
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: phyllotaxis * electron beam lithography
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0287595