Výsledky vyhledávání
- 1.0567523 - FZÚ 2023 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Mareš, P. - Dubau, M. - Polášek, J. - Mates, Tomáš - Kozák, T. - Vyskočil, J.
High deposition rate films prepared by reactive HiPIMS.
Vacuum. Roč. 191, Sep (2021), č. článku 110329. ISSN 0042-207X. E-ISSN 1879-2715
Grant CEP: GA MŠMT LM2018110; GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA MPO FV30177
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760; AV ČR(CZ) StrategieAV21/6
Program: StrategieAV
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: reactive magnetron sputtering * HiPIMS * Monte-carlo simulations * deposition rate * sputtering yield
Obor OECD: Coating and films
Impakt faktor: 4.110, rok: 2021
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2021.110329
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0338777 - 2.0537050 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Hnilica, J. - Klein, P. - Vašina, P.
Zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů.
[Device for deposition rate increase in HiPIMS using pulse packages.]
Interní kód: FVNCK1/FZU/2020 ; 2020
Technické parametry: Délka pulzu: 30 μs, vzdálenost mezi pulzy v balíčku: 20 μs, střída: 5 %, počet pulzů:4, pracovní tlak v reaktoru: 1 Pa
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Grant CEP: GA TA ČR TN01000038
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: sputtering * thin films * plasma * deposition * deposition rate * pulse package * ionization fraction
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314801 - 3.0524998 - FZÚ 2021 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Olejníček, Jiří - Šmíd, Jiří - Čada, Martin - Kšírová, Petra - Kohout, Michal - Perekrestov, Roman - Tvarog, D. - Kment, Štěpán - Kmentová, H. - Hubička, Zdeněk
High rate deposition of photoactive TiO2 films by hot hollow cathode.
Surface and Coatings Technology. Roč. 383, Feb (2020), s. 1-10, č. článku 125256. ISSN 0257-8972
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA MŠMT EF16_013/0001406; GA ČR GA17-20008S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760; OP VVV - SAFMAT(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_013/0001406
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: TiO2 * hollow cathode discharge * sputtering * thermal evaporation * deposition rate
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 4.158, rok: 2020
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2019.125256
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0309201 - 4.0519372 - FZÚ 2020 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Hajihoseini, H. - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Ünaldi, S. - Raadu, M.A. - Brenning, N. - Gudmundsson, J.T. - Lundin, D.
The effect of magnetic field strength and geometry on the deposition rate and ionized flux fraction in the HiPIMS discharge.
Plasma. Roč. 2, č. 2 (2019), s. 201-221. E-ISSN 2571-6182
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR GA19-00579S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: ionized physical vapor deposition * magnetron sputtering * high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) * ionized flux fraction * deposition rate
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0304364Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0519372.pdf 0 1.2 MB CC licence Vydavatelský postprint povolen - 5.0424549 - FZÚ 2014 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Adámek, Petr - Kment, Štěpán - Olejníček, Jiří
Aparatura pro měření toků neutrálních a ionizovaných částic na substrát v nízkoteplotním plazmatu.
[An apparatus for neutral and ion flux measurement on substrate in a low-temperature plasma.]
Interní kód: IONEU2013 ; 2013
Technické parametry: Vyvinutá aparatura umožňuje měřit tok (depoziční rychlost) neutrálních nebo nabitých částic na substrát. K tomuto účelu je využito QCM čidlo s možností přivedení předpětí opatřené vhodně zvoleným magneickým polem na vstupu QCM čidla
Ekonomické parametry: Snížení pořizovacích nákladů na přístrojové vybavení.
Grant CEP: GA TA ČR TA01010517
Grant ostatní: AVČR(CZ) M100101215
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: deposition rate * neutral/ion flux ratio * magnetic field * QCM sensor
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0230613 - 6.0396132 - FZÚ 2014 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Kubart, T. - Adámek, Petr - Olejníček, Jiří - Kment, Štěpán
Systém pro měření toků neutrálních a ionizovaných depozičních částic dopadajících na substrát při růstu tenkých vrstev.
[System for measurement of ion and neutral particles flux deposited onto substrate during thin film deposition process.]
2013. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Datum udělení vzoru: 16.09.2013. Číslo vzoru: 25867
Grant CEP: GA TA ČR TA01011740; GA MŠMT LH12043
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: ion flux * neutral particles * magnetic field * deposition rate
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
http://spisy.upv.cz/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0025/uv025867.pdf
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0223966 - 7.0390204 - FZÚ 2013 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Kšírová, Petra - Šmíd, Jiří - Olejníček, Jiří - Kment, Štěpán
Lineární diagnostický systém plazmové depozice pro velkoplošné procesy.
[Linear diagnostic system of plasma deposition for large scale processes.]
Interní kód: FS3/FZÚ/2012 ; 2012
Technické parametry: Typ termočlánku kalorimetrické sondy-K. Základní frekvence QCM senzoru 5000,00 kHz. Frekvenční rozsah pulzního napětí pro měření iontového toku 50-400 kHz. Frekvence RF zdroje harmonického napětí pro měření iontového toku 1 MHz Funkční vzorek byl vytvořen v rámci řešení projektu TAČR TA01011740. Hlavním řešitelem projektu je firma SVCS (která má smlouvu s TAČR c. 20110108) a FZU je spoluřešitelem. Mezi FZU a SVCS je podepsána Smlouva o spolupráci, upravující podmínky spolupráce při přípravě a řešení Projektu a využití výsledků výzkumu, která je nutnou součástí řešení projektu. Odpovědným řešitelem za FZÚ je Dr. Kromka. Cislo dokumentace (i pro TACR) i inventarni cislo je totozne s internim kodem: FS3/FZÚ/2012
Ekonomické parametry: V rámci projektu TAČR byl vytvořen měřící diagnostický systém pro velkoplošné depoziční techniky. Tento systém bude součástí realizovaného vícetryskového depozičního MW systému.
Grant CEP: GA TA ČR TA01011740
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: heating flux * plasma * ion flux * deposition * thin films * deposition rate
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0219081 - 8.0355011 - ÚI 2011 RIV PL eng J - Článek v odborném periodiku
Thomas, J. - Jílek, K. - Brabec, Marek
Inversion of the Jacobi-Porstendörfer Room Model for the Radon Progeny.
Nukleonika. Roč. 55, č. 4 (2010), s. 433-437. ISSN 0029-5922. E-ISSN 1508-5791
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10300504
Klíčová slova: Jacobi room model * inversion and invariants of the model * unattached radon daughters * attachment rate * deposition rate
Kód oboru RIV: BB - Aplikovaná statistika, operační výzkum
Impakt faktor: 0.321, rok: 2010
http://www.nukleonika.pl/www/back/full/vol55_2010/v55n4p433f.pdf
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0193874 - 9.0327235 - ÚCHP 2010 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Hussein, T. - Kubincová, L. - Ondráčková, Lucie - Hruška, A. - Dohányosová, Pavla - Hemerka, J. - Smolík, Jiří
Deposition of Aerosol Particles on Rough Surfaces Inside a Test Chamber.
[Depozice aerosolových částic na drsných površích uvnitř testovací komory.]
Building and Environment. Roč. 44, č. 10 (2009), s. 2056-2063. ISSN 0360-1323. E-ISSN 1873-684X
Grant CEP: GA ČR GA101/04/1190; GA ČR GA101/07/1361
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z40720504
Klíčová slova: deposition rate * hydraulically smooth * surface roughness
Kód oboru RIV: CF - Fyzikální chemie a teoretická chemie
Impakt faktor: 1.797, rok: 2009
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0174097 - 10.0318562 - ÚCHP 2009 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Hussein, T. - Hruška, A. - Dohányosová, Pavla - Ondráčková, Lucie - Hemerka, J. - Kulmala, M. - Smolík, Jiří
Deposition Rates on Smooth Surfaces and Coagulation of Aerosol Particles Inside a Test Chamber.
[Depoziční rychlosti na hladkých površích a koagulace aerosolových částic v experimentální komoře.]
Atmospheric Environment. Roč. 43, č. 4 (2009), s. 905-914. ISSN 1352-2310. E-ISSN 1873-2844
Grant CEP: GA ČR GA101/04/1190; GA ČR GA101/07/1361
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z40720504
Klíčová slova: deposition rate * turbophoresis * coagulation
Kód oboru RIV: CF - Fyzikální chemie a teoretická chemie
Impakt faktor: 3.139, rok: 2009
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0167942