Výsledky vyhledávání
- 1.0576914 - ÚOCHB 2024 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Prooth, J. - Petrov, M. - Shmakova, A. - Gulka, Michal - Cígler, Petr - D´Haen, J. - Boyen, H. G. - Nesladek, M.
Long Spin Relaxation Times in CVD-Grown Nanodiamonds.
Advanced Quantum Technologies. Roč. 6, č. 12 (2023), č. článku 2300004. E-ISSN 2511-9044
Grant CEP: GA MŠMT EF16_026/0008382; GA ČR(CZ) GA23-04876S
GRANT EU: European Commission(XE) 101038045 - ChemiQS
Grant ostatní: AV ČR(CZ) StrategieAV21/29
Program: StrategieAV
Institucionální podpora: RVO:61388963
Klíčová slova: chemical vapor deposition * fluorescent nanodiamonds * nitrogen-vacancy (NV) spin relaxometry * quantum sensing
Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Impakt faktor: 4.4, rok: 2022
Způsob publikování: Open access
https://doi.org/10.1002/qute.202300004
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0346299Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 10.1002qute.202300004.pdf 1 2.1 MB Vydavatelský postprint povolen - 2.0574800 - ÚPT 2024 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Čech, V. - Bránecký, Martin
Synthesis of thin-film materials using nonthermal plasma at a higher degree of dissociation.
Plasma Processes and Polymers. Roč. 20, č. 7 (2023), č. článku 2300019. ISSN 1612-8850. E-ISSN 1612-8869
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: degree of dissociation * nonthermal plasma * organosilicon precursors * plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) * sticking coefficient * thin films
Obor OECD: Polymer science
Impakt faktor: 3.5, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/ppap.202300019
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0344768 - 3.0570231 - FZÚ 2024 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Lambert, Nicolas - Sung, Kil-dong - Mortet, Vincent
Optical emission spectroscopy analysis of microwave plasma-enhanced chemical vapor deposition systems dynamic gas response.
Physica Status Solidi A. Roč. 220, č. 4 (2023), č. článku 2200322. ISSN 1862-6300. E-ISSN 1862-6319
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-03538S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: diamond growth * dynamic gas response * microwave plasma-enhanced chemical vapor deposition (MWPECVD) * optical emission spectroscopy (OES)
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 2, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1002/pssa.202200322
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0349378 - 4.0565154 - ÚCHP 2024 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Pola, Josef
Thermal reactive modifications of polymer surfaces by infrared laser radiation.
Journal of Analytical and Applied Pyrolysis. Roč. 169, JAN 2023 (2023), č. článku 105819. ISSN 0165-2370. E-ISSN 1873-250X
Institucionální podpora: RVO:67985858
Klíčová slova: chemical-vapor-deposition * pulsed CO2 laser ablation * vinyl acetate copolymers
Obor OECD: Polymer science
Impakt faktor: 6, rok: 2022
Způsob publikování: Open access s časovým embargem
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0336661Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0565154.pdf 0 11.5 MB Autorský postprint vyžádat - 5.0558458 - FZÚ 2023 RIV CZ cze C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Kromka, Alexander
Chemická depozice diamantových tenkých vrstev z par plynů.
[Chemical deposition of diamond thin films from gas vapors.]
Zpravodaj ČVS. Vol. 1. Praha: Česká Vakuová Společnost, 2022 - (Drbohlav, J.), s. 11-15. ISSN 1213-2705.
[LŠVT - Letní škola vakuové techniky 2022. Bítov (CZ), 30.05.2022-02.06.2022]
Grant CEP: GA MŠMT LM2018110
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: diamond technology * nucleation * chemical vapor deposition
Obor OECD: Coating and films
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0332383 - 6.0556566 - FZÚ 2023 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Lambert, Nicolas - Weiss, Zdeněk - Klimša, Ladislav - Kopeček, Jaromír - Gedeonová, Zuzana - Hubík, Pavel - Mortet, Vincent
Highly phosphorus-doped polycrystalline diamond growth and properties.
Diamond and Related Materials. Roč. 125, May (2022), č. článku 108964. ISSN 0925-9635. E-ISSN 1879-0062
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA21-03538S
Výzkumná infrastruktura: CzechNanoLab - 90110
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: diamond growth * polycrystalline diamond * phosphorus doping * pulsed gas * microwave plasma enhanced chemical vapor deposition
Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Impakt faktor: 4.1, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.diamond.2022.108964
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0330728 - 7.0556262 - FZÚ 2023 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Mortet, Vincent - Taylor, Andrew - Davydova, Marina - Jiránek, J. - Fekete, Ladislav - Klimša, Ladislav - Šimek, Daniel - Lambert, Nicolas - Sedláková, Silvia - Kopeček, Jaromír - Hazdra, P.
Effect of substrate crystalline orientation on boron-doped homoepitaxial diamond growth.
Diamond and Related Materials. Roč. 122, Feb (2022), č. článku 108887. ISSN 0925-9635. E-ISSN 1879-0062
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA20-11140S; GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Výzkumná infrastruktura: CzechNanoLab - 90110
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: diamond boron-doping * substrate crystallographic orientation * plasma-enhanced chemical vapor deposition
Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Impakt faktor: 4.1, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.diamond.2022.108887
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0330553 - 8.0556036 - FZÚ 2023 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Hazdra, P. - Laposa, A. - Šobáň, Zbyněk - Voves, J. - Lambert, Nicolas - Davydova, Marina - Povolný, V. - Taylor, Andrew - Mortet, Vincent
Low-resistance ohmic contacts on boron-doped {113} oriented homoepitaxial diamond layers.
Diamond and Related Materials. Roč. 121, Jan (2022), č. článku 108797. ISSN 0925-9635. E-ISSN 1879-0062
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA20-11140S; GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Výzkumná infrastruktura: CzechNanoLab - 90110
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: diamond contacts * boron-doping * chemical vapor deposition * contact resistance
Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Impakt faktor: 4.1, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.diamond.2021.108797
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0330411 - 9.0549904 - ÚCHP 2022 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
Dřínek, Vladislav - Tiagulskyi, Stanislav - Yatskiv, Roman - Grym, Jan - Fajgar, Radek - Jandová, Věra - Koštejn, Martin - Kupčík, Jaroslav
Chemical vapor deposition of germanium-rich CrGe x nanowires.
Beilstein Journal of Nanotechnology. Roč. 12, DEC 7 (2021), s. 1365-1371. ISSN 2190-4286. E-ISSN 2190-4286
Grant ostatní: AV ČR(CZ) StrategieAV21/3; AV ČR(CZ) L200721851
Program: StrategieAV; Program podpory perspektivních lidských zdrojů
Institucionální podpora: RVO:67985858 ; RVO:67985882
Klíčová slova: chemical vapor deposition * chromium germanide * nanostructured materials
Obor OECD: Physical chemistry; Physical chemistry (URE-Y)
Impakt faktor: 3.272, rok: 2021
Způsob publikování: Open access
https://www.beilstein-journals.org/bjnano/content/pdf/2190-4286-12-100.pdf
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0325788Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 2190-4286-12-100.pdf 0 6.1 MB Vydavatelský postprint povolen - 10.0525347 - ÚFCH JH 2021 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Verhagen, T. - Rodriguez, Álvaro - Vondráček, Martin - Honolka, Jan - Funke, S. - Zlámalová, Magda - Kavan, Ladislav - Kalbáč, Martin - Vejpravová, J. - Frank, Otakar
Chemical Vapor Deposition of MoS2 for Energy Harvesting: Evolution of the Interfacial Oxide Layer.
ACS Applied Nano Materials. Roč. 3, č. 7 (2020), s. 6563-6573. ISSN 2574-0970
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA17-18702S; GA MŠMT(CZ) EF16_027/0008355; GA MŠMT(CZ) EF16_013/0001821; GA MŠMT EF16_013/0001406
Institucionální podpora: RVO:61388955 ; RVO:68378271
Klíčová slova: MoS2 * SiO2 * chemical vapor deposition
Obor OECD: Electrochemistry (dry cells, batteries, fuel cells, corrosion metals, electrolysis); Physical chemistry (FZU-D)
Impakt faktor: 5.097, rok: 2020
Způsob publikování: Omezený přístup
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0309512Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0525347.pdf 7 7.3 MB Vydavatelský postprint vyžádat 0525347preprint.pdf 8 7.1 MB Autorský postprint povolen