Výsledky vyhledávání
- 1.0540442 - ÚFP 2021 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Vozda, V. - Burian, Tomáš - Hájková, V. - Juha, Libor - Enkisch, H. - Faatz, B. - Hermann, M. - Jacyna, I. - Jurek, M. - Keitel, B. - Klinger, D. - Loch, R. - Louis, E. - Makhotkin, I.A. - Plönjes, E. - Saksl, K. - Siewert, F. - Sobierajski, R. - Strobel, S. - Tiedtke, K. - Toleikis, S. - Vries de, M. S. - Zelinger, Z. - Chalupský, J.
Characterization of megahertz X-ray laser beams by multishot desorption imprints in PMMA.
Optics Express. Roč. 28, č. 18 (2020), s. 25664-25681. ISSN 1094-4087
Grant CEP: GA MŠMT EF16_013/0001552
Institucionální podpora: RVO:61389021
Klíčová slova: X-ray * laser beams * PMMA
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 3.894, rok: 2020
Způsob publikování: Open access
https://www.osapublishing.org/oe/fulltext.cfm?uri=oe-28-18-25664&id=434470
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0318045 - 2.0540378 - FZÚ 2021 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Vozda, Vojtěch - Burian, Tomáš - Hájková, Věra - Juha, Libor - Enkisch, H. - Faatz, B. - Hermann, M. - Jacyna, I. - Jurek, M. - Keitel, B. - Klinger, D. - Loch, R. - Louis, E. - Makhotkin, I.A. - Ploenjes, E. - Saksl, K. - Siewert, F. - Sobierajski, R. - Strobel, S. - Tiedtke, K. - Toleikis, S. - de Vries, G. - Zelinger, Zdeněk - Chalupský, Jaromír
Characterization of megahertz X-ray laser beams by multishot desorption imprints in PMMA.
Optics Express. Roč. 28, č. 18 (2020), s. 25664-25681. ISSN 1094-4087
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA17-05167s
GRANT EU: European Commission(XE) 654148 - LASERLAB-EUROPE
Institucionální podpora: RVO:68378271 ; RVO:61388955
Klíčová slova: multishot desorption imprints * free-electron laser (FEL) X-ray laser * poly(methyl methacrylate) (PMMA)
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics); Physical chemistry (UFCH-W)
Impakt faktor: 3.894, rok: 2020
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0318008Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0540378.pdf 1 1.9 MB OA vydavatele Vydavatelský postprint povolen - 3.0503529 - ÚFP 2019 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Makhotkin, I.A. - Milov, I. - Chalupský, J. - Tiedtke, K. - Enkisch, H. - de Vries, G. - Scholze, F. - Siewert, F. - Sturm, J.M. - Nikolaev, K. V. - van de Kruijs, R.W.E. - Smithers, M.A. - van Wolferen, H.A.G.M. - Keim, E.G. - Louis, E. - Jacyna, I. - Jurek, M. - Klinger, D. - Pełka, J.B. - Juha, Libor - Hájková, V. - Vozda, V. - Burian, Tomáš - Saksl, K. - Faatz, B. - Keitel, B. - Plönjes, E. - Schreiber, S. - Toleikis, S. - Loch, R. - Hermann, M. - Strobel, S. - Donker, R. - Mey, T. - Sobierajski, R.
Damage accumulation in thin ruthenium films induced by repetitive exposure to femtosecond XUV pulses below the single-shot ablation threshold.
Journal of the Optical Society of America. B. Roč. 35, č. 11 (2018), s. 2799-2805. ISSN 0740-3224. E-ISSN 1520-8540
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LM2015083; GA MŠMT LTT17015; GA MŠMT EF16_013/0001552; GA ČR GPP205/11/P712
GRANT EU: European Commission(XE) 654148 - LASERLAB-EUROPE
Institucionální podpora: RVO:61389021
Klíčová slova: interaction of femtosecond XUV pulses * single-shot ablation threshold * damage accumulation in thin ruthenium films
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Impakt faktor: 2.284, rok: 2018
https://www.nature.com/articles/s41598-018-36176-8
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0295348 - 4.0500161 - ÚFP 2019 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Milov, I. - Makhotkin, I.A. - Sobierajski, R. - Medvedev, Nikita - Lipp, V. - Chalupský, J. - Sturm, J.M. - Tiedtke, K. - de Vries, G. - Stoermer, M. - Siewert, F. - van de Kruijs, R. - Louis, E. - Jacyna, I. - Jurek, M. - Juha, L. - Hájková, V. - Vozda, V. - Burian, T. - Saksl, K. - Faatz, B. - Keitel, B. - Ploenjes, E. - Schreiber, S. - Toleikis, S. - Loch, R. - Hermann, M. - Strobel, S. - Nienhuys, H.-K. - Gwalt, G. - Mey, T. - Enkisch, H. - Bijkerk, F.
Mechanism of single-shot damage of Ru thin films irradiated by femtosecond extreme UV free-electron laser.
Optics Express. Roč. 26, č. 15 (2018), s. 19665-19685. ISSN 1094-4087
Grant CEP: GA MŠMT EF16_013/0001552
Institucionální podpora: RVO:61389021
Klíčová slova: molecular-dynamics * threshold measurements * multilayer optics * lattice-dynamics * metal targets * pulse * ablation * spallation * radiation * surface
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Impakt faktor: 3.561, rok: 2018
https://www.osapublishing.org/oe/abstract.cfm?uri=oe-26-15-19665
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0292293 - 5.0497873 - FZÚ 2019 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Makhotkin, I.A. - Milov, I. - Chalupský, Jaromír - Tiedtke, K. - Enkisch, H. - de Vries, G. - Scholze, F. - Siewert, F. - Sturm, J.M. - Nikolaev, K. - van de Kruijs, R.W.E. - Smithers, M.A. - van Wolferen, H.A.G.M. - Keim, E.G. - Louis, E. - Jacyna, I. - Jurek, M. - Klinger, D. - Pelka, J. B. - Juha, Libor - Hájková, Věra - Vozda, Vojtěch - Burian, Tomáš - Saksl, Karel - Faatz, B. - Keitel, B. - Ploenjes, E. - Schreiber, S. - Toleikis, S. - Loch, R. - Hermann, M. - Strobel, S. - Donker, R. - Mey, T. - Sobierajski, R.
Damage accumulation in thin ruthenium films induced by repetitive exposure to femtosecond XUV pulses below the single-shot ablation threshold.
Journal of the Optical Society of America. B. Roč. 35, č. 11 (2018), s. 2799-2805. ISSN 0740-3224. E-ISSN 1520-8540
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA17-05167s; GA MŠMT LG15013; GA ČR(CZ) GA14-29772S
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: interaction of femtosecond XUV pulses * single-shot ablation threshold * damage accumulation in thin ruthenium films
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Impakt faktor: 2.284, rok: 2018
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0290344 - 6.0492824 - FZÚ 2019 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Milov, I. - Makhotkin, I.A. - Sobierajski, R. - Medvedev, Nikita - Lipp, V. - Chalupský, Jaromír - Sturm, J.M. - Tiedtke, K. - de Vries, G. - Störmer, M. - Siewert, F. - van de Kruijs, R. - Louis, E. - Jacyna, I. - Jurek, M. - Juha, Libor - Hájková, Věra - Vozda, Vojtěch - Burian, Tomáš - Saksl, K. - Faatz, B. - Keitel, B. - Ploenjes, E. - Schreiber, S. - Toleikis, S. - Loch, R. - Hermann, M. - Strobel, S. - Nienhuys, H.-K. - Gwalt, G. - Mey, T. - Enkisch, H. - Bijkerk, F.
Mechanism of single-shot damage of Ru thin films irradiated by femtosecond extreme UV free-electron laser.
Optics Express. Roč. 26, č. 15 (2018), s. 19665-19685. ISSN 1094-4087
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA17-05167s; GA MŠMT LG15013
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: free-electron lasers * XUV mirrors * Ruthenium material * single-shot damage of thin films
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Impakt faktor: 3.561, rok: 2018
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0286255 - 7.0489644 - ÚFP 2019 RIV DK eng J - Článek v odborném periodiku
Makhotkin, I.A. - Sobierajski, R. - Chalupský, J. - Tiedtke, K. - de Vries, G. - Stoermer, M. - Scholze, F. - Siewert, F. - van de Kruijs, R.W.E. - Louis, E. - Jacyna, I. - Jurek, M. - Klinger, D. - Nittler, L. - Syryanyy, Y. - Juha, Libor - Hájková, V. - Vozda, V. - Burian, Tomáš - Saksl, K. - Faatz, B. - Keitel, B. - Ploenjes, E. - Schreiber, S. - Toleikis, S. - Loch, R. - Hermann, M. - Strobel, S. - Nienhuys, H.-K. - Gwalt, G. - Mey, T. - Enkisch, H.
Experimental study of EUV mirror radiation damage resistance under long-term free-electron laser exposures below the single-shot damage threshold.
Journal of Synchrotron Radiation. Roč. 25, č. 1 (2018), s. 77-84. ISSN 0909-0495. E-ISSN 1600-5775.
[Workshop on FEL Photon Diagnostics, Instrumentation and Beamline Design (PhotonDiag2017). Stanford, 01.05.2017-03.05.2017]
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA14-29772S; GA MŠMT LG15013
Institucionální podpora: RVO:61389021
Klíčová slova: free-electron laser induced damage * EUV optics * thin films * FELs
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 2.452, rok: 2018
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0284055 - 8.0487414 - FZÚ 2019 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Makhotkin, I. - Sobierajski, R. - Chalupský, Jaromír - Tiedtke, K. - de Vries, G. - Stoermer, M. - Scholze, F. - Siewert, F. - van de Kruijs, R.W.E. - Milov, I. - Louis, E. - Jacyna, I. - Jurek, M. - Klinger, D. - Nittler, L. - Syryanyy, Y. - Juha, Libor - Hájková, Věra - Vozda, Vojtěch - Burian, Tomáš - Saksl, Karel - Faatz, B. - Keitel, B. - Ploenjes, E. - Schreiber, S. - Toleikis, S. - Loch, R.A. - Hermann, M. - Strobel, S. - Nienhuys, H.-K. - Gwalt, G. - Mey, T. - Enkisch, H.
Experimental study of EUV mirror radiation damage resistance under long-term free-electron laser exposures below the single-shot damage threshold.
Journal of Synchrotron Radiation. Roč. 25, č. 1 (2018), s. 77-84. ISSN 0909-0495. E-ISSN 1600-5775.
[Workshop on FEL Photon Diagnostics, Instrumentation and Beamline Design (PhotonDiag2017). Stanford, 01.05.2017-03.05.2017]
Grant CEP: GA MŠMT LG15013; GA ČR(CZ) GA17-05167s; GA ČR(CZ) GA14-29772S
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: free-electron laser induced damage * EUV optics * thin films * FELs
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 2.452, rok: 2018
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0283325 - 9.0486531 - ÚFP 2018 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Sobierajski, R. - Jacyna, I. - Dlužewski, P. - Klepka, M.T. - Klinger, D. - Pełka, J.B. - Burian, T. - Hájková, V. - Juha, Libor - Saksl, K. - Vozda, V. - Makhotkin, I. - Louis, E. - Faatz, B. - Tiedtke, K. - Toleikis, S. - Enkisch, H. - Hermann, M. - Strobel, S. - Loch, R.A. - Chalupský, J.
Role of heat accumulation in the multi-shot damage of silicon irradiated with femtosecond XUV pulses at a 1 MHz repetition rate.
Optics Express. Roč. 24, č. 14 (2016), s. 15468-15477. ISSN 1094-4087
Institucionální podpora: RVO:61389021
Klíčová slova: free-electron lasers * damage * x-rays * soft x-rays * extreme ultraviolet (EUV) * semiconductor materials * materials processing
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 3.307, rok: 2016
https://doi.org/10.1364/OE.24.015468
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0281362 - 10.0466618 - FZÚ 2017 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Sobierajski, R. - Jacyna, I. - Dlužewski, P. - Klepka, M.T. - Klinger, D. - Pelka, J. B. - Burian, Tomáš - Hájková, Věra - Juha, Libor - Saksl, K. - Vozda, Vojtěch - Makhotkin, I. - Louis, E. - Faatz, B. - Tiedtke, K. - Toleikis, S. - Enkisch, H. - Hermann, M. - Strobel, S. - Loch, R.A. - Chalupský, Jaromír
Role of heat accumulation in the multi-shot damage of silicon irradiated with femtosecond XUV pulses at a 1 MHz repetition rate.
Optics Express. Roč. 24, č. 14 (2016), s. 15468-15477. ISSN 1094-4087
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LH14072; GA ČR(CZ) GA14-29772S
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: free-electron lasers * damage * x-rays * soft x-rays * extreme ultraviolet (EUV) * semiconductor materials * materials processing
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Impakt faktor: 3.307, rok: 2016
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0264888