Výsledky vyhledávání

  1. 1.
    0480747 - ÚPT 2018 RIV CZ cze Z - Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda/plemeno
    Horáček, Miroslav - Matějka, Milan - Král, Stanislav - Matějka, F. - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Kolařík, Vladimír
    Příprava TFE W(100) ZrO katod.
    [TFE W(100) ZrO emitter preparation.]
    Interní kód: APL-2017-3 ; 2017
    Technické parametry: Katody se připravují z W(100) monokrystalu. Standardní svítivost katody je 0,5 mA/sr. Technologie vyžaduje čistou laboratoř s třídou čistoty 1000 nebo lepší a vysokovakuovou aparaturu
    Ekonomické parametry: Ověřená technologie vznikla při řešení grantů. Ověřenou technologii využívá příjemce jednak při zajištění provozu aparatury elektronového litografu TESLA BS600 využívaného pro řešení řady projektů, a jednak v rámci smluvního výzkumu. Kontakt: Ing. Miroslav Horáček, Ph.D., mih@isibrno.cz
    Grant CEP: GA MŠk(CZ) LO1212; GA MŠk ED0017/01/01; GA TA ČR(CZ) TE01020118; GA TA ČR TE01020233; GA MPO FR-TI1/576
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: elektronová litografie * katoda * emitér * termo auto emise * W(100)
    Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    Obor OECD: Electrical and electronic engineering
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0276457
     
  2. 2.
    0478403 - ÚPT 2018 RIV CZ cze Z - Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda/plemeno
    Chlumská, Jana - Matějka, Milan - Kolařík, Vladimír
    Ovrstvení Si desek tlustou vrstvou rezistu a kontrola vrstvy.
    [Thick layer coating on Si wafers and the control of the layer.]
    Interní kód: APL-2017-02 ; 2017
    Technické parametry: Vrstvy rezistu se nanáší na křemíkové podložky průměru 4-6 palců. Nominální tloušťka vrstev je 10 mikronů. Technologie vyžaduje čistou laboratoř s třídou čistoty 1000 nebo lepší.
    Ekonomické parametry: Ověřená technologie realizovaná při řešení grantů, využívaná příjemcem při vývoji planárních mikrostruktur v rámci projektu FV10618 a v rámci smluvního výzkumu. Kontakt: Ing. Miroslav Horáček, Ph.D., mih@isibrno.cz
    Grant CEP: GA MŠk(CZ) LO1212; GA MŠk ED0017/01/01
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: e-beam lithography * PMMA rezist * thick layers * spin coating
    Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    Obor OECD: Materials engineering
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0274516