Výsledky vyhledávání

  1. 1.
    0566446 - ÚPT 2023 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Král, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav
    SMV-2022-57: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
    [SMV-2022-57: Development of test specimens for SEM.]
    Brno: TESCAN Brno s.r.o., 2022. 5 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0337763

               
     
     
  2. 2.
    0565756 - ÚPT 2023 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Král, Stanislav
    SMV-2022-01: Reliéfní struktury na principu difraktivní optiky.
    [SMV-2022-01: Relief structures based on diffractive optics.]
    Brno: IQS nano s.r.o., 2022. 21 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: diffractive optical structures * relief structure * e-beam lithography
    Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
    Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0337265

               
     
     
  3. 3.
    0549960 - ÚPT 2022 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav
    SMV-2021-31: TELIGHT zaměřovací obrazec.
    [SMV-2021-31: TELIGHT aiming pattern.]
    Brno: TELIGHT Brno, s.r.o., 2021. 8 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: e-beam lithography * optics * reactive ion etching
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0325852

               
     
     
  4. 4.
    0549956 - ÚPT 2022 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Král, Stanislav
    SMV-2021-07: Reliéfní mikrostruktury na principu difraktivní optiky.
    [SMV-2021-07: Relief microstructures based on diffractive optics.]
    Brno: IQS Group s.r.o., 2021. 4 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: diffractive optical structures * relief structure * e-beam lithography
    Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0325849

               
     
     
  5. 5.
    0549952 - ÚPT 2022 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Král, Stanislav
    SMV-2021-01: Reliéfní struktury na principu difraktivní optiky.
    [SMV-2021-01: Relief structures based on diffractive optics.]
    Brno: IQS nano s.r.o., 2021. 22 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: diffractive optical structures * relief structure * e-beam lithography
    Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0325848

               
     
     
  6. 6.
    0545142 - ÚPT 2022 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav
    SMV-2021-03: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
    [SMV-2021-03: Development of test specimens for SEM.]
    Brno: Tescan Brno, s.r.o., 2021. 6 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0321890

               
     
     
  7. 7.
    0545141 - ÚPT 2022 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Kopal, Jaroslav
    SMV-2021-02: Vývoj a realizace amplitudové masky pro justáž optomechanických soustav.
    [SMV-2021-02: Development and implementation of amplitude masks for adjustment of optomechanical systems.]
    Brno: Meopta - optika, s.r.o., 2021. 6 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: e-beam lithography * lithography mask
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0321889

               
     
     
  8. 8.
    0536616 - ÚPT 2021 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Pokorná, Zuzana
    SMV-2020-23: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
    [SMV-2020-23: Development of test specimens for SEM.]
    Brno: Tescan Brno s.r.o., 2020. 8 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: relief structure: e-beam lithography * silicon etching * microlithography
    Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314396

               
     
     
  9. 9.
    0536030 - ÚPT 2021 CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Král, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Knápek, Alexandr
    SMV-2020-24: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
    [SMV-2020-24: Development of test specimens for SEM.]
    Brno: Delong Instruments, a.s., 2020. 7 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: relief structure: e-beam lithography * relief structure: silicon etching * silicon etching * microlithography
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0313879

               
     
     
  10. 10.
    0535442 - ÚPT 2021 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Král, Stanislav … celkem 8 autorů
    SMV-2020-20: Reliéfní mikrostruktury na principu difraktivní optiky.
    [SMV-2020-20: Relief microstructures based on diffractive optics.]
    Brno: IQS Group s.r.o., 2020. 15 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: diffractive optical structures * relief structure * e-beam lithography
    Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0313460

               
     
     

  Tyto stránky využívají soubory cookies,které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom, jak používáme cookies.