Výsledky vyhledávání

  1. 1.
    0544061 - ÚPT 2022 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
    Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Matějka, Milan - Burda, Daniel - Ondříšková, Martina - Lalinský, Ondřej - Horodyský, P.
    Litografická maska.
    [Lithographic mask.]
    Interní kód: APL-2021-03 ; 2021
    Technické parametry: Základními technickými parametry jsou perioda mřížky a procentuální pokrytí maskovací vrstvy.
    Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Bc. Jana Chlumská, chlumska@isibrno.cz
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: electron beam lithography * photomask
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0321117
     
  2. 2.
    0543692 - ÚPT 2022 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
    Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Burda, Daniel - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Pirunčík, J. - Aubrecht, I.
    Vzorník parciálních difrakčních a refrakčních struktur.
    [Sampler of partial diffractive and refractive elements.]
    Interní kód: APL-2021-02 ; 2021
    Technické parametry: Master (Si), galvanická replika (Ni), výlisek v polymerním materiálu.
    Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Miroslav Horáček, Ph.D., mih@isibrno.cz
    Grant CEP: GA MV(CZ) VI20192022147
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: diffraction * refraction * optically variable image element * e-beam writer
    Kód oboru RIV: JJ - Ostatní materiály
    Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0320871
     
  3. 3.
    0536665 - ÚPT 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
    Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Kolařík, Vladimír - Burda, Daniel
    Optický element vyvazující světlo z tenké transparentní podložky.
    [An optical element that transmits light from a thin transparent pad.]
    Interní kód: APL-2020-10 ; 2020
    Technické parametry: Optický element tvořený planární strukturou v tenké vrstvě rezistu nanesené na průhledné podložce. Základním parametrem optického elementu je množství světla vyvedeného pomocí této planární struktury.
    Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Milan Matějka, Ph.D., mmatejka@isibrno.cz
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: diffractive optical element * electron lithography * reactive ion etching * YAG phosphor * thin film deposition * PVD
    Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314401
     
  4. 4.
    0536218 - ÚPT 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
    Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Fořt, Tomáš - Chlumská, Jana - Úlehla, L. - Moťka, L.
    Speciální fotomaska pro měření zkreslení rekonstrukce obrazu.
    [Special photomask for image distortion measurement of projection optics.]
    Interní kód: APL-2020-04 ; 2020
    Technické parametry: Motiv kovové masky obsahuje matici přesně velikých čtvercových útvarů sloužících ke kontrole nastavení výrobního procesu
    Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, kratky@isibrno.cz
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: e–beam lithography * reactive ion etching
    Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314036
     
  5. 5.
    0535780 - ÚPT 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
    Stoklasa, B. - Venos, Š. - Kuchařík, J. - Hopp, J. - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Fořt, Tomáš - Pokorný, Pavel
    Binární difrakční optický element pro korekci Besselovského svazku.
    [Binary diffractive optical element for Bessel beam correction.]
    Interní kód: APL-2020-03 ; 2020
    Technické parametry: Fázový difrakční optický element připravený v materiálu fused silica sloužící ke korekci vstupního Besselovského svazku
    Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, kratky@isibrno.cz
    Grant CEP: GA MPO(CZ) FV40197
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: Bessel beam reactive ion etching * diffractive optical element * e–beam lithography * reactive ion etching
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0313713
     
  6. 6.
    0496767 - ÚPT 2019 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
    Drozd, Michal - Knápek, Alexandr - Král, Stanislav - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Pavelka, Jan - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr
    Aparatura pro detekci nečistot v naneseném rezistu.
    [Apparatus for detecting of particles in coated resist layer.]
    Interní kód: APL-2018-05 ; 2018
    Technické parametry: Jedná se o aparaturu používající pro skenování digitální kameru. Rozměry: 45x35x50 cm, rychlost skenování 1cm2/2min., rozlišení částic > 10 um. Typ podložek: Si destička 4‘a 6‘.
    Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Alexandr Knápek, Ph.D., knapek@isibrno.cz
    Grant CEP: GA TA ČR TG03010046; GA MŠk(CZ) LO1212
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: e–beam lithography * quality control * image processing
    Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    Obor OECD: Automation and control systems
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0289410
     
  7. 7.
    0481742 - ÚPT 2018 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
    Meluzín, Petr - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Horáček, Miroslav - Král, Stanislav - Knápek, Alexandr - Giričová, D. - Brunn, Ondřej
    Propagační hologram “av21”Strategie AV ČR AV21.
    [Promotional hologram “av21” Strategy CAS AV21.]
    Interní kód: APL-2017-04 ; 2017
    Technické parametry: Zřízení má rozměr 46 mm x 30 mm (výsek štítku má rozměr 42 mm x 26 mm). Zařízení obashuje čárové mřížky, spirálovou mřížku, zonální prvky a strukturu CGH.
    Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantů je využíván příjemcem. Kontakt: Ing. Petr Meluzín, meluzin@isibrno.cz
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TG03010046; GA MŠk ED0017/01/01; GA MŠk(CZ) LO1212; GA TA ČR TE01020233
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: e–beam lithography * planar microstructure * diffractive device
    Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0277246
     
  8. 8.
    0474978 - ÚPT 2018 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
    Kolařík, Vladimír - Meluzín, Petr - Horáček, Miroslav - Král, Stanislav - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana
    Fylotaktické difrakční obrazové zařízení.
    [Phyllotactic diffractive image device.]
    Interní kód: APL-2017-01 ; 2017
    Technické parametry: Zařízení má průměr 32 mm. Středová oblast průměru 23 mm obsahuje difrakční křížovou mřížku, jejíž optické elementy jsou uspořádány podél spirály s délkou 20 km. Při konstrukci je dále použito běžných mřížek a zonálních prvků.
    Ekonomické parametry: Repliky funkčního vzorku realizovaného při řešení grantů jsou využívány příjemcem. Kontakt: doc. Ing. Vladimír Kolařík, Ph.D., kolariq@isibrno.cz
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TG03010046; GA MŠk ED0017/01/01; GA MŠk(CZ) LO1212; GA TA ČR TE01020233
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: e–beam lithography * planar microstructure * diffractive device
    Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    Obor OECD: Construction engineering, Municipal and structural engineering
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0271868
     
  9. 9.
    0464662 - ÚPT 2017 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
    Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Král, Stanislav - Urbánek, Michal - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr
    Opticky variabilní obrazové zařízení cas 1.
    [Optically variable image device.]
    Interní kód: APL-2016-01 ; 2016
    Technické parametry: Zařízení má velikost 33 mm x 33 mm. Středová oblast průměru 20 mm obsahuje difrakční vrypy délky 571 metrů. Podkladová oblast s UV mřížkou obsahuje vrypy délky 2,5 km. Při konstrukci je dále použito 9 zonálních prvků, 5 holografických prvků a jeden zajišťovací mikro grafický prvek.
    Ekonomické parametry: Repliky funkčního vzorku realizovaného při řešení grantů jsou využívány příjemcem.Kontakt: doc. Ing. Vladimír Kolařík, Ph.D., kolariq@isibrno.cz
    Grant CEP: GA MŠk(CZ) LO1212
    Klíčová slova: e-beam lithography * planar microstructure * diffractive device
    Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0265190