Výsledky vyhledávání

  1. 1.
    0543745 - ÚPT 2022 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Chlumská, Jana - Lalinský, Ondřej - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír
    Patterning of conductive nano-layers on garnet.
    NANOCON 2020 - Conference proceedings. 12th International Conference on Nanomaterials - Research & Application. Ostrava: TANGER, 2021, (2021), s. 221-224. ISBN 978-80-87294-98-7. ISSN 2694-930X.
    [International Conference NANOCON 2020 /12./. Brno (CZ), 21.10.2020-23.10.2020]
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: Electron beam lithography * nano-patterning * yttrium aluminium garnet
    https://www.confer.cz/nanocon/2020/3731-patterning-of-conductive-nano-layer-on-garnet
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0320902
     
  2. 2.
    0482751 - ÚPT 2018 RIV CZ cze C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Krátký, Stanislav - Knápek, Alexandr - Mika, Filip - Chlumská, Jana - Matějka, František - Král, Stanislav - Brunn, Ondřej - Giričová, D. - Kopal, Jaroslav - Kolařík, Vladimír
    Deterministicky aperiodické obrazové zařízení.
    [Deterministic Aperiodic Image Device.]
    Sborník příspěvků multioborové konference LASER57. Brno: Ústav přístrojové techniky AV ČR, 2017 - (Růžička, B.), s. 34-35. ISBN 978-80-87441-21-3.
    [LASER57. Třešť (CZ), 08.11.2017-10.11.2017]
    Grant CEP: GA MŠk(CZ) LO1212; GA MŠk ED0017/01/01; GA TA ČR TE01020233; GA TA ČR(CZ) TG03010046; GA MPO(CZ) FV10618
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: e–beam lithography * diffractive optically variable image device
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
    Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0278201
     
  3. 3.
    0464389 - ÚPT 2018 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Krátký, Stanislav - Meluzín, Petr - Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Král, Stanislav
    Blaze Gratings with a Ribbed Back Slope.
    NANOCON 2016. 8th International Conference on Nanomaterials - Research and Application. Conference Proceedings. Ostrava: Tanger, 2017, s. 757-761. ISBN 978-80-87294-71-0.
    [NANOCON 2016. International Conference on Nanomaterials - Research and Application /8./. Brno (CZ), 19.10.2016-21.10.2016]
    Grant CEP: GA TA ČR TE01020233; GA MŠk(CZ) LO1212; GA MŠk ED0017/01/01
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: nano patterning * blazed diffraction grating * Gaussian-type beam * variable-shaped beam * electron beam writer
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
    Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0270770
     
  4. 4.
    0464387 - ÚPT 2018 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Řiháček, Tomáš - Kolařík, Vladimír - Chlumská, Jana - Urbánek, Michal
    Nanopatterning of Silicon Nitride Membranes.
    NANOCON 2016. 8th International Conference on Nanomaterials - Research and Application. Conference Proceedings. Ostrava: Tanger, 2017, s. 709-714. ISBN 978-80-87294-71-0.
    [NANOCON 2016. International Conference on Nanomaterials - Research and Application /8./. Brno (CZ), 19.10.2016-21.10.2016]
    Grant CEP: GA TA ČR TE01020233; GA MŠk(CZ) LO1212; GA MŠk ED0017/01/01
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: e-beam writer * silicon nitride membranes * nano patterning * anisotropic etching
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
    Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0270768
     
  5. 5.
    0464174 - ÚPT 2017 RIV CZ cze C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Krátký, Stanislav - Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Matějka, Milan - Král, Stanislav
    Laser a fylotaxe.
    [Laser and Phyllotaxy.]
    Sborník příspěvků multioborové konference LASER56. Brno: Ústav přístrojové techniky AV ČR, 2016, s. 36-37. ISBN 978-80-87441-18-3.
    [LASER56. Třešť (CZ), 19.10.2016-21.10.2016]
    Grant CEP: GA MŠk(CZ) LO1212; GA MŠk ED0017/01/01; GA TA ČR TE01020233
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: e-beam lithography * photo masks * planar relief structures
    Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0263202
     
  6. 6.
    0449277 - ÚPT 2016 RIV CZ cze C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Krátký, Stanislav - Meluzín, Petr - Urbánek, Michal - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír
    Amplitudově fázová vortexová maska.
    [An Amplitude-Phase Vortex Photo Mask.]
    Sborník příspěvků multioborové konference LASER 55. Brno: Ústav přístrojové techniky AV ČR, 2015, s. 32-33. ISBN 978-80-87441-16-9.
    [LASER 55. Třešť (CZ), 21.10.2015-23.10.2015]
    Grant CEP: GA MŠk(CZ) LO1212; GA MŠk ED0017/01/01; GA TA ČR TE01020233
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: photo mask * vortex beam * e-beam lithography
    Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0251045
     
  7. 7.
    0437978 - ÚPT 2015 CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Urbánek, Michal - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Bok, Jan
    Structural Color of Metallic Surfaces.
    METAL 2014. 23. ročník mezinárodní konference metalurgie a materiálů. Conference Proceedings. Ostrava: TANGER, 2014, s. 962-967. ISBN 978-80-87294-52-9.
    [METAL 2014. Mezinárodní konference metalurgie a materiálů /23./. Brno (CZ), 21.05.2014-23.05.2014]
    Grant CEP: GA MŠk ED0017/01/01; GA MŠk(CZ) LO1212; GA TA ČR TE01020233
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: nano structures * structural color * metallic surface * e-beam lithography
    Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0241539
     
  8. 8.
    0437840 - ÚPT 2015 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Meluzín, Petr - Horáček, Miroslav - Urbánek, Michal - Bok, Jan - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír
    Some Other Gratings: Benchmarks for Large-Area E-Beam Nanopatterning.
    NANOCON 2014. 6th International conference proceedings. Ostrava: TANGER, 2014. ISBN 978-80-87294-55-0.
    [NANOCON 2014. International Conference /6./. Brno (CZ), 05.11.2014-07.11.2014]
    Grant CEP: GA MŠk(CZ) LO1212; GA MŠk ED0017/01/01
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: e-beam writer * optical nano structures * diffraction gratings * fractal gratings
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0241326
     
  9. 9.
    0437838 - ÚPT 2015 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Horáček, Miroslav - Krátký, Stanislav - Urbánek, Michal - Kolařík, Vladimír - Meluzín, Petr - Matějka, Milan - Chlumská, Jana
    Exposure Time Comparison between E-beam Writer with Gaussian Beam and Variable Shaped Beam.
    NANOCON 2014. 6th International conference proceedings. Ostrava: TANGER, 2014. ISBN 978-80-87294-55-0.
    [NANOCON 2014. International Conference /6./. Brno (CZ), 05.11.2014-07.11.2014]
    Grant CEP: GA MŠk(CZ) LO1212; GA MŠk ED0017/01/01; GA TA ČR TE01020118
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: e-beam writer * Gaussian beam * variable shaped beam
    Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0241322
     
  10. 10.
    0434553 - ÚPT 2015 RIV CZ cze C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Krátký, Stanislav - Urbánek, Michal - Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Chlumská, Jana - Matějka, Milan - Šerý, Mojmír - Mikel, Břetislav
    Fázové masky vyrobené elektronovou litografií a iontovým leptáním pro přípravu vláken s braggovými mřížkami.
    [Phase photo masks produced by means of electron beam lithography and ion etching for Bragg gratings.]
    Sborník příspěvků multioborové konference Laser54. Brno: Ústav přístrojové techniky AV ČR, 2014, s. 31-32. ISBN 978-80-87441-13-8.
    [Laser54. Třešť (CZ), 29.10.2014-31.10.2014]
    Grant CEP: GA MŠk(CZ) LO1212; GA MŠk ED0017/01/01; GA TA ČR TE01020233; GA TA ČR TE01020118
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: electron beam lithography * industrial holography
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0238707