Výsledky vyhledávání
- 1.0574101 - ÚPT 2024 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Kolařík, V. - Stříteský, S. - Matějka, M. - Knápek, Alexandr - Těthal, T. - Krátký, S. - Meluzín, Petr - Voláková, V. - Lexa, P. - Mika, Filip - Chlumská, J. - Sadílek, Jakub - Horáček, Miroslav
Optický prvek pro technické aplikace na bázi počítačem generovaných hologramů.
[Optical element based on CGH for technical applications.]
Interní kód: APL-2021-18 ; 2021
Technické parametry: Velikost optického prvku 25 mm x 25 mm, kvaziperiodická struktura s víceúrovňovým profilem, rozlišení zápisu v osách X/Y 200 nm, výška reliéfu 1050 nm.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: doc. Ing. Alexandr Knápek, Ph.D., knapek@isibrno.cz.
Grant CEP: GA MPO(CZ) EG19_262/0020294
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: diffractive optical element * computer generated hologram * direct write
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0344501 - 2.0511776 - ÚPT 2020 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Knápek, Alexandr - Klein, Pavel - Delong, A.
Aparatura pro opakovatelnou přípravu nanometrických sond.
[Set-up for automated preparation of nanometric probes.]
Interní kód: APL-2019-18 ; 2019
Technické parametry: Materiál 0.35 mm silný polykrystal/monokrystal wolframový drát
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Alexandr Knápek, Ph.D., knapek@isibrno.cz
Grant CEP: GA TA ČR TG03010046
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: electrochemical etching * nanometric probe * anodic dissolution
Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0302021 - 3.0498361 - ÚPT 2019 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Knápek, Alexandr - Sobola, D.
STM sonda z grafitu a metody její přípravy.
[STM probe from graphite material and methods of its preparation.]
Interní kód: APL-2018-10 ; 2018
Technické parametry: Průměr materiálu 0.3 – 0.8 mm, vodivost 3x105 S/m
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Alexandr Knápek, Ph.D., knapek@isibrno.cz
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LO1212
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: scanning tunneling microscopy * holder for electrochemical etching * conductive probe
Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0290753 - 4.0496767 - ÚPT 2019 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Drozd, Michal - Knápek, Alexandr - Král, Stanislav - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Pavelka, Jan - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr
Aparatura pro detekci nečistot v naneseném rezistu.
[Apparatus for detecting of particles in coated resist layer.]
Interní kód: APL-2018-05 ; 2018
Technické parametry: Jedná se o aparaturu používající pro skenování digitální kameru. Rozměry: 45x35x50 cm, rychlost skenování 1cm2/2min., rozlišení částic > 10 um. Typ podložek: Si destička 4‘a 6‘.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Alexandr Knápek, Ph.D., knapek@isibrno.cz
Grant CEP: GA TA ČR TG03010046; GA MŠMT(CZ) LO1212
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: e–beam lithography * quality control * image processing
Obor OECD: Automation and control systems
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0289410 - 5.0481742 - ÚPT 2018 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Meluzín, Petr - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Horáček, Miroslav - Král, Stanislav - Knápek, Alexandr - Giričová, D. - Brunn, Ondřej
Propagační hologram “av21”Strategie AV ČR AV21.
[Promotional hologram “av21” Strategy CAS AV21.]
Interní kód: APL-2017-04 ; 2017
Technické parametry: Zřízení má rozměr 46 mm x 30 mm (výsek štítku má rozměr 42 mm x 26 mm). Zařízení obashuje čárové mřížky, spirálovou mřížku, zonální prvky a strukturu CGH.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantů je využíván příjemcem. Kontakt: Ing. Petr Meluzín, meluzin@isibrno.cz
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TG03010046; GA MŠMT ED0017/01/01; GA MŠMT(CZ) LO1212; GA TA ČR TE01020233
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: e–beam lithography * planar microstructure * diffractive device
Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0277246