Výsledky vyhledávání
- 1.0481686 - FZÚ 2018 RIV cze P - Patentový dokument
Olejníček, Jiří - Šmíd, Jiří - Hubička, Zdeněk - Adámek, Petr - Čada, Martin - Kment, Štěpán
Způsob řízení rychlosti depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému a zařízení k provádění tohoto způsobu.
[A method of controlling the rate of deposition of thin layers in a vacuum multi-nozzle plasma system and a device for implementing this method.]
2017. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Datum udělení patentu: 13.09.2017. Číslo patentu: 306980
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TF01000084
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: hollow cathode * plasma nozzle * deposition * thin films
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
https://isdv.upv.cz/webapp/webapp.pts.det?xprim=10241583&lan=cs&s_majs=&s_puvo=&s_naze=&s_anot=
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0277207 - 2.0449903 - FZÚ 2016 RIV cze P - Patentový dokument
Hubička, Zdeněk - Straňák, Vítězslav - Šmíd, Jiří - Olejníček, Jiří - Čada, Martin - Adámek, Petr - Kment, Štěpán - Kromka, Alexander
Hybridní plazmová tryska s povrchovou vlnou pro buzení vysoce reaktivních výbojů.
[Hybrid plasma nozzle with surface wave for driving highly reactive discharges.]
2015. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Datum udělení patentu: 09.09.2015. Číslo patentu: 305482
Grant CEP: GA MŠMT LH12045; GA TA ČR TA03010743
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: plasma * discharge * surfatron * thin films
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
http://isdv.upv.cz/portal/pls/portal/portlets.pts.det?xprim=10113746
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0251346