Výsledky vyhledávání | Knihovna Akademie věd České republiky

Nalezeno záznamů: 2

Váš dotaz: Autor-kód záznamu + druh.dok = "^cav_un_auth 0258661 zz^"

Do košíku
RIV
Bookmark
1.
0480747 - ÚPT 2018 RIV CZ cze Z - Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda/plemeno
Horáček, Miroslav - Matějka, Milan - Král, Stanislav - Matějka, F. - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Kolařík, Vladimír
Příprava TFE W(100) ZrO katod.
[TFE W(100) ZrO emitter preparation.]
Interní kód: APL-2017-3 ; 2017
Technické parametry: Katody se připravují z W(100) monokrystalu. Standardní svítivost katody je 0,5 mA/sr. Technologie vyžaduje čistou laboratoř s třídou čistoty 1000 nebo lepší a vysokovakuovou aparaturu
Ekonomické parametry: Ověřená technologie vznikla při řešení grantů. Ověřenou technologii využívá příjemce jednak při zajištění provozu aparatury elektronového litografu TESLA BS600 využívaného pro řešení řady projektů, a jednak v rámci smluvního výzkumu. Kontakt: Ing. Miroslav Horáček, Ph.D., mih@isibrno.cz
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LO1212; GA MŠMT ED0017/01/01; GA TA ČR(CZ) TE01020118; GA TA ČR TE01020233; GA MPO FR-TI1/576
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: elektronová litografie * katoda * emitér * termo auto emise * W(100)
Obor OECD: Electrical and electronic engineering
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0276457
Do košíku
RIV
Bookmark
2.
0336589 - ÚPT 2010 RIV CZ cze Z - Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda/plemeno
Kolařík, Vladimír - Matějka, František - Horáček, Miroslav - Lencová, Bohumila - Matějka, Milan - Král, Stanislav - Urbánek, Michal - Mikšík, P. - Vašina, J. - Horák, R.
Technologie zápisu elektronovým svazkem proměnné velikosti 66 - 2100 nm.
[E-Beam Writing Technology with Variable Beam Size of 66 - 2100 nm.]
Interní kód: 162 410 ; 2009
Technické parametry: Proudová hustota ve svazku (min – střed - max): 1,8 – 3,6 – 14,4 A/cm2. Otočení souřadnic tvarování, vychylování a posuvu substrátu: -45 stupňů.
Ekonomické parametry: Desetkrát vyšší proudová hustota umožňuje zvýšit základní expoziční dobu až desetkrát, což má přímý vliv na produktivitu. Zmenšení velikosti svazku umožňuje dosáhnout vyššího rozlišení, což umožňuje realizovat struktury dříve nerealizovatelné.
Grant CEP: GA MPO FR-TI1/576
Klíčová slova: electron beam lithography * shaped electron beam
Kód oboru RIV: JP - Průmyslové procesy a zpracování
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0180792