Výsledky vyhledávání

  1. 1.
    0353108 - ÚPT 2011 CZ eng K - Konferenční příspěvek (tuzemská konf.)
    Mikmeková, Eliška - Sobota, Jaroslav - Caha, O. - Mikmeková, Šárka
    Study of intrinsic stress in CNx films prepared by magnetron sputtering device using electron microscopy.
    Mikroskopie 2010. Nové Město na Moravě: Československá mikroskopická společnost, 2010 - (Frank, L.; Hozák, P.), s. 56. ISBN N.
    [Mikroskopie 2010. Nové Město na Moravě (CZ), 17.02.2010-18.02.2010]
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
    Klíčová slova: carbon nitride * thin films * RF magnetron sputtering
    Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0006218