Výsledky vyhledávání
- 1.0353108 - ÚPT 2011 CZ eng K - Konferenční příspěvek (tuzemská konf.)
Mikmeková, Eliška - Sobota, Jaroslav - Caha, O. - Mikmeková, Šárka
Study of intrinsic stress in CNx films prepared by magnetron sputtering device using electron microscopy.
Mikroskopie 2010. Nové Město na Moravě: Československá mikroskopická společnost, 2010 - (Frank, L.; Hozák, P.), s. 56. ISBN N.
[Mikroskopie 2010. Nové Město na Moravě (CZ), 17.02.2010-18.02.2010]
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: carbon nitride * thin films * RF magnetron sputtering
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0006218