Výsledky vyhledávání

  1. 1.
    0537420 - ÚFE 2021 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
    Mrázek, Jan
    Hydrofobní koloidní difuzní zdroj fosforu pro přípravu dotovaného křemíku typu N.
    [Hydrophobic colloidal diffusion source of phosphorus for preparing doped silicon type N.]
    2020. Vlastník: Ústav fotoniky a elektroniky AV ČR, v. v. i. Datum udělení vzoru: 18.08.2020. Číslo vzoru: 34311
    Institucionální podpora: RVO:67985882
    Klíčová slova: semiconductor * phosphorus * colloid
    Obor OECD: Electrical and electronic engineering
    https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0034/uv034311.pdf
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0315136
    Název souboruStaženoVelikostKomentářVerzePřístup
    UFE 0537420.pdf0462.7 KBJinávyžádat
     
     
  2. 2.
    0537419 - ÚFE 2021 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
    Mrázek, Jan
    Koloidní difuzní zdroj fosforu pro přípravu dotovaného křemíku typu N připravený dispergací s anorganickými plnivy.
    [Colloidal diffusion source of phosphorus for preparing N-type doped silicon prepared by dispersion with inorganic fillers.]
    2020. Vlastník: Ústav fotoniky a elektroniky AV ČR, v. v. i. Datum udělení vzoru: 18.08.2020. Číslo vzoru: 34310
    Institucionální podpora: RVO:67985882
    Klíčová slova: semiconductor * phosphorus * colloid
    Obor OECD: Electrical and electronic engineering
    https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0034/uv034310.pdf
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0315134
    Název souboruStaženoVelikostKomentářVerzePřístup
    UFE 0537419.pdf0466.7 KBJinápovolen
     
     
  3. 3.
    0523531 - ÚFE 2020 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
    Mrázek, Jan
    Koloidní difuzní zdroj bóru pro přípravu dotovaného křemíku typu P.
    [Colloidal boron diffusion source for the preparation of doped P-type silicon.]
    2019. Vlastník: Ústav fotoniky a elektroniky AV ČR, v. v. i. Datum udělení vzoru: 30.09.2019. Číslo vzoru: 33261
    Grant CEP: GA MPO(CZ) FV30151
    Institucionální podpora: RVO:67985882
    Klíčová slova: semiconductor * boron * colloid
    Obor OECD: Electrical and electronic engineering
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0307887
    Název souboruStaženoVelikostKomentářVerzePřístup
    UFE 0523531.pdf1127.7 KBVydavatelský postprintpovolen
     
     
  4. 4.
    0523530 - ÚFE 2020 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
    Mrázek, Jan
    Koloidní difuzní zdroj fosforu pro přípravu dotovaného křemíku typu N.
    [Colloidal diffuse source of phosphorus for preparing doped of the type N silicon.]
    2019. Vlastník: Ústav fotoniky a elektroniky AV ČR, v. v. i. Datum udělení vzoru: 10.06.2019. Číslo vzoru: 32924
    Grant CEP: GA MPO(CZ) FV30151
    Institucionální podpora: RVO:67985882
    Klíčová slova: semiconductor * phosphorus * colloid
    Obor OECD: Electrical and electronic engineering
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0307886
    Název souboruStaženoVelikostKomentářVerzePřístup
    UFE 0523530.pdf5136.8 KBVydavatelský postprintpovolen
     
     
  5. 5.
    0502903 - ÚFE 2019 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
    Podrazký, Ondřej - Mrázek, Jan - Kašík, Ivan - Šašek, L. - Schilhart, R.
    Optický pH metr s mikroskopickou sondou.
    [An optical pH meter with a microscopic probe.]
    2017. Vlastník: Ústav fotoniky a elektroniky AV ČR, v.v.i - SAFIBRA, s.r.o. Datum udělení vzoru: 31.07.2017. Číslo vzoru: 30867
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TA04011400
    Institucionální podpora: RVO:67985882
    Klíčová slova: optical device * pH * fiber-optic probe
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0030/uv030867.pdf
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0295114
    Název souboruStaženoVelikostKomentářVerzePřístup
    UFE 0502903.pdf0186.9 KBJinápovolen