Výsledky vyhledávání
- 1.0537420 - ÚFE 2021 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
Mrázek, Jan
Hydrofobní koloidní difuzní zdroj fosforu pro přípravu dotovaného křemíku typu N.
[Hydrophobic colloidal diffusion source of phosphorus for preparing doped silicon type N.]
2020. Vlastník: Ústav fotoniky a elektroniky AV ČR, v. v. i. Datum udělení vzoru: 18.08.2020. Číslo vzoru: 34311
Institucionální podpora: RVO:67985882
Klíčová slova: semiconductor * phosphorus * colloid
Obor OECD: Electrical and electronic engineering
https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0034/uv034311.pdf
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0315136Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup UFE 0537420.pdf 1 462.7 KB Jiná vyžádat - 2.0537419 - ÚFE 2021 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
Mrázek, Jan
Koloidní difuzní zdroj fosforu pro přípravu dotovaného křemíku typu N připravený dispergací s anorganickými plnivy.
[Colloidal diffusion source of phosphorus for preparing N-type doped silicon prepared by dispersion with inorganic fillers.]
2020. Vlastník: Ústav fotoniky a elektroniky AV ČR, v. v. i. Datum udělení vzoru: 18.08.2020. Číslo vzoru: 34310
Institucionální podpora: RVO:67985882
Klíčová slova: semiconductor * phosphorus * colloid
Obor OECD: Electrical and electronic engineering
https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0034/uv034310.pdf
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0315134Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup UFE 0537419.pdf 0 466.7 KB Jiná povolen - 3.0523531 - ÚFE 2020 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
Mrázek, Jan
Koloidní difuzní zdroj bóru pro přípravu dotovaného křemíku typu P.
[Colloidal boron diffusion source for the preparation of doped P-type silicon.]
2019. Vlastník: Ústav fotoniky a elektroniky AV ČR, v. v. i. Datum udělení vzoru: 30.09.2019. Číslo vzoru: 33261
Grant CEP: GA MPO(CZ) FV30151
Institucionální podpora: RVO:67985882
Klíčová slova: semiconductor * boron * colloid
Obor OECD: Electrical and electronic engineering
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0307887Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup UFE 0523531.pdf 4 127.7 KB Vydavatelský postprint povolen - 4.0523530 - ÚFE 2020 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
Mrázek, Jan
Koloidní difuzní zdroj fosforu pro přípravu dotovaného křemíku typu N.
[Colloidal diffuse source of phosphorus for preparing doped of the type N silicon.]
2019. Vlastník: Ústav fotoniky a elektroniky AV ČR, v. v. i. Datum udělení vzoru: 10.06.2019. Číslo vzoru: 32924
Grant CEP: GA MPO(CZ) FV30151
Institucionální podpora: RVO:67985882
Klíčová slova: semiconductor * phosphorus * colloid
Obor OECD: Electrical and electronic engineering
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0307886Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup UFE 0523530.pdf 5 136.8 KB Vydavatelský postprint povolen - 5.0502903 - ÚFE 2019 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
Podrazký, Ondřej - Mrázek, Jan - Kašík, Ivan - Šašek, L. - Schilhart, R.
Optický pH metr s mikroskopickou sondou.
[An optical pH meter with a microscopic probe.]
2017. Vlastník: Ústav fotoniky a elektroniky AV ČR, v.v.i - SAFIBRA, s.r.o. Datum udělení vzoru: 31.07.2017. Číslo vzoru: 30867
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TA04011400
Institucionální podpora: RVO:67985882
Klíčová slova: optical device * pH * fiber-optic probe
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0030/uv030867.pdf
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0295114Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup UFE 0502903.pdf 0 186.9 KB Jiná povolen