Výsledky vyhledávání
- 1.0535207 - ÚPT 2021 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
Knápek, Alexandr - Horáček, Miroslav - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Brunn, Ondřej - Burda, Daniel - Kolařík, Vladimír
Vlastnosti kvaziperiodických spirálových mikrostruktur.
[Properties of quasiperiodic spiral microstrictures.]
Jemná mechanika a optika. Roč. 65, č. 6 (2020), s. 175-178. ISSN 0447-6441
Grant CEP: GA MV(CZ) VI20192022147
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: planar phyllotactit model * electron beam lithography * diffractive optically variable image device
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Způsob publikování: Omezený přístup
https://jmo.fzu.cz/sites/jmo.fzu.cz/files/oldweb/2020/2020-06/jmo_20_06_obsah.pdf
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0313290
- 2.0531987 - ÚPT 2021 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Knápek, Alexandr - Dallaev, R. - Burda, Daniel - Sobola, D. - Allaham, M.M. - Horáček, Miroslav - Kašpar, P. - Matějka, Milan - Mousa, M. S.
Field Emission Properties of Polymer Graphite Tips Prepared by Membrane Electrochemical Etching.
Nanomaterials. Roč. 10, č. 7 (2020), č. článku 1294. E-ISSN 2079-4991
Grant CEP: GA MV(CZ) VI20192022147
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: polymer graphite tip * electrochemical etching * field emission microscopy
Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Impakt faktor: 5.076, rok: 2020
Způsob publikování: Open access
https://www.mdpi.com/2079-4991/10/7/1294
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0310599
- 3.0501458 - ÚPT 2020 RIV SK eng J - Článek v odborném periodiku
Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Knápek, Alexandr - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Meluzín, Petr
Spiral arrangement: From nanostructures to packaging.
Journal of Electrical Engineering - Elektrotechnický časopis. Roč. 70, č. 1 (2019), s. 74-77. ISSN 1335-3632. E-ISSN 1339-309X
Grant CEP: GA MPO FV10618; GA TA ČR TG03010046; GA TA ČR TE01020233; GA MŠk(CZ) LO1212; GA MŠk ED0017/01/01
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: electron beam lithography * phyllotaxis * spiral arrangement * parastichy
Obor OECD: Electrical and electronic engineering
Impakt faktor: 0.686, rok: 2019
Způsob publikování: Open access
https://content.sciendo.com/view/journals/jee/70/1/article-p74.xml?lang=en
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0293484
- 4.0495264 - ÚPT 2019 RIV PL eng J - Článek v odborném periodiku
Knápek, Alexandr - Horáček, Miroslav - Chlumská, Jana - Kuparowitz, T. - Sobola, D. - Šikula, J.
Preparation and noise analysis of polymer graphite cathode.
Metrology and Measurement Systems. Roč. 25, č. 3 (2018), s. 451-458. ISSN 0860-8229. E-ISSN 2300-1941
Grant CEP: GA MŠk ED0017/01/01; GA TA ČR(CZ) TE01020118
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: field emission * polymer graphite * noise analysis
Obor OECD: Electrical and electronic engineering
Impakt faktor: 1.096, rok: 2018
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0288267
- 5.0481762 - ÚPT 2018 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
Knápek, Alexandr - Horáček, Miroslav - Chlumská, Jana - Král, Stanislav
Studená autoemisní katoda z tuhy do mikrotužky?
[A cold field-emission cathode from micro-pencil graphite?]
Jemná mechanika a optika. Roč. 62, č. 10 (2017), s. 251-253. ISSN 0447-6441
Grant CEP: GA MŠk(CZ) LO1212
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: polymer graphite * field emission of electrons
Obor OECD: Materials engineering
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0277313
- 6.0477782 - ÚPT 2018 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Král, Stanislav
Combined e-beam lithography using different energies.
Microelectronic Engineering. Roč. 177, JUN (2017), s. 30-34. ISSN 0167-9317. E-ISSN 1873-5568
Grant CEP: GA TA ČR TE01020233; GA MŠk(CZ) LO1212; GA MŠk ED0017/01/01
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: grayscale e-beam lithography * mix and match process * absorbed energy density * resist sensitivity * micro-optical elements
Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
Impakt faktor: 2.020, rok: 2017
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0274006
- 7.0454665 - ÚPT 2016 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Bok, Jan - Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Urbánek, Michal - Matějka, Milan - Krzyžánek, Vladislav
Measurements of current density distribution in shaped e-beam writers.
Microelectronic Engineering. Roč. 149, JAN 5 (2016), s. 117-124. ISSN 0167-9317. E-ISSN 1873-5568
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA14-20012S; GA MŠk(CZ) LO1212; GA MŠk ED0017/01/01
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: shaped e-beam writer * electron beam * current density
Kód oboru RIV: JB - Senzory, čidla, měření a regulace
Impakt faktor: 1.806, rok: 2016
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0255378
- 8.0452395 - ÚPT 2016 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
Krátký, Stanislav - Urbánek, Michal - Chlumská, Jana - Matějka, Milan - Meluzín, Petr - Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav
Kombinace elektronové litografie s gaussovským svazkem a s proměnným tvarovaným svazkem.
[Combination of electron lithography with Gaussian and shaped beams.]
Jemná mechanika a optika. Roč. 60, č. 1 (2015), s. 10-13. ISSN 0447-6441
Grant CEP: GA MŠk(CZ) LO1212
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: e-beam writer * Gausssian beam * variable shaped beam
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0253409
- 9.0433910 - ÚPT 2015 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
Urbánek, Michal - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav
Metody zápisu nanostruktur rastrovací sondou.
[Scanning Probe Nanolithography Methods.]
Chemické listy. Roč. 108, č. 10 (2014), s. 937-941. ISSN 0009-2770. E-ISSN 1213-7103
Grant CEP: GA MŠk(CZ) LO1212
Klíčová slova: scanning probe lithography * local anodic oxidation * nanoscratching * atomic force microscopy
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Impakt faktor: 0.272, rok: 2014
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0238098
- 10.0429848 - ÚPT 2015 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
Urbánek, Michal - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav
Plazmochemické leptání křemíku v zařízení Diener nano.
[Plasmochemical Etching of Silicon in Diener Nano Device.]
Chemické listy. Roč. 108, č. 6 (2014), s. 592-595. ISSN 0009-2770. E-ISSN 1213-7103
Grant CEP: GA MŠk(CZ) LO1212
Klíčová slova: plasmochemical etching * silicon * etching rate * selectivity
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Impakt faktor: 0.272, rok: 2014
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0234865