Výsledky vyhledávání

  1. 1.
    0551244 - FZÚ 2022 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
    Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Kšírová, Petra - Houha, R. - Matulová, L.
    Optický polovodivý prvek.
    [Optical semiconductor element.]
    2021. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i - IQS group, s.r.o. Datum udělení vzoru: 05.08.2021. Číslo vzoru: 35307
    Grant CEP: GA MPO FV20580
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: optical element * thin film * semiconductor * gradient film * reactive sputtering * impedance spectroscopy
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0035/uv035307.pdf
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0326690
     
     
  2. 2.
    0518947 - FZÚ 2020 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
    Čada, Martin - Hubička, Zdeněk
    Zařízení pro vytváření vysokofrekvenčního plazmového výboje s elektronovou cyklotronovou vlnovou rezonancí.
    [Device for generating high frequency plasma discharge with electron cyclotron wave resonance.]
    2019. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Datum udělení vzoru: 05.11.2019. Číslo vzoru: 33342
    Grant CEP: GA TA ČR TF03000025
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: ECWR výboj * elektrické předpětí
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    https://isdv.upv.cz/webapp/resdb.print_detail.det?pspis=PUV/35478&plang=CS
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0303947
     
     
  3. 3.
    0500946 - FZÚ 2019 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
    Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Kšírová, Petra - Klinger, Miloslav
    Zařízení pro pulzní plazmatické povlakování vnitřních povrchů dutých dielektrických trubic.
    [A device for pulsed plasma coating of internal surfaces of hollow dielectric tubes.]
    2018. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v .v. i. Datum udělení vzoru: 25.07.2018. Číslo vzoru: 31918
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TG02010056
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: hollow cathode * plasma * thin films * RF plasma * discharge
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    https://isdv.upv.cz/webapp/resdb.print_detail.det?pspis=PUV/34923&plang=CS
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0292982
     
     
  4. 4.
    0466215 - FZÚ 2017 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
    Olejníček, Jiří - Šmíd, Jiří - Hubička, Zdeněk - Adámek, Petr - Čada, Martin - Kment, Štěpán
    Zařízení k řízení depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému.
    [Device to control deposition of thin layers in vacuum multijet plasma system.]
    2016. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Datum udělení vzoru: 15.11.2016. Číslo vzoru: 30018
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TF01000084
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: plasma jet * thin films * hollow cathode * sputtering
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0030/uv030018.pdf
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0264578
     
     
  5. 5.
    0465145 - FZÚ 2017 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
    Adámek, Petr - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Jastrabík, Lubomír - Kment, Štěpán - Olejníček, Jiří
    Zařízení pro umožnění diagnostiky plazmatu s vyloučením měření narušených nestabilitami a přechodovými jevy v plazmatu.
    [Device to enable plasma diagnostics with exclusion of measurements disturbed by instabilities and transient phenomena in plasma.]
    2016. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Datum udělení vzoru: 31.10.2016. Číslo vzoru: 29928
    Grant CEP: GA TA ČR TA03010743
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: deposition plasma * plasma diagnostics * exclusion of measurements disturbed by instabilities * Langmuir probe
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0029/uv029928.pdf
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0263923
     
     
  6. 6.
    0462264 - FZÚ 2017 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
    Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Kment, Štěpán - Olejníček, Jiří - Adámek, Petr - Straňák, Vítězslav
    Vysokofrekvenční aparatura pro měření parametrů plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny.
    [Radio-frequency apparatus for measuring plasma parameters by making use of wave resonance of electron cyclotron wave.]
    2016. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Datum udělení vzoru: 07.06.2016. Číslo vzoru: 29519
    Grant CEP: GA TA ČR TA03010743
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: ECWR * low-temprature plasma * thin film * plasma density * plasma deposition
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0029/uv029519.pdf
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0261744
     
     
  7. 7.
    0448124 - FZÚ 2016 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
    Hubička, Zdeněk - Straňák, Vítězslav - Šmíd, Jiří - Olejníček, Jiří - Čada, Martin - Adámek, Petr - Kment, Štěpán - Kromka, Alexander
    Hybridní plazmová tryska s povrchovou vlnou pro buzení vysoce reaktivních výbojů.
    [Hybrid plasma nozzle with surface wave for exciting extremely reactive discharges.]
    2015. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Datum udělení vzoru: 14.07.2015. Číslo vzoru: 28463
    Grant CEP: GA MŠk LH12045; GA TA ČR TA03010743
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: sufatron * plasma technology * discharge plasma
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0028/uv028463.pdf
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0249847
     
     
  8. 8.
    0397456 - FZÚ 2014 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
    Adámek, Petr - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Kment, Štěpán - Olejníček, Jiří
    Měřicí systém pro mikrovlnnou diagnostiku plazmatu.
    [Measuring system for microwave plasma diagnostics.]
    2013. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Datum udělení vzoru: 01.10.2013. Číslo vzoru: 25927
    Grant CEP: GA TA ČR TA01011740; GA MŠk LD12002; GA MŠk LH12043
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: microwave * plasma diagnostics * antenna * resonator
    Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    http://spisy.upv.cz/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0025/uv025927.pdf
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0225083
     
     
  9. 9.
    0396132 - FZÚ 2014 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
    Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Kubart, T. - Adámek, Petr - Olejníček, Jiří - Kment, Štěpán
    Systém pro měření toků neutrálních a ionizovaných depozičních částic dopadajících na substrát při růstu tenkých vrstev.
    [System for measurement of ion and neutral particles flux deposited onto substrate during thin film deposition process.]
    2013. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Datum udělení vzoru: 16.09.2013. Číslo vzoru: 25867
    Grant CEP: GA TA ČR TA01011740; GA MŠk LH12043
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: ion flux * neutral particles * magnetic field * deposition rate
    Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    http://spisy.upv.cz/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0025/uv025867.pdf
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0223966
     
     
  10. 10.
    0383946 - FZÚ 2013 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
    Hubička, Zdeněk - Dejneka, Alexandr - Čada, Martin - Adámek, Petr - Jastrabík, Lubomír - Suchaneck, G. - Olejníček, Jiří - Kment, Štěpán - Straňák, Vítězslav
    Plazmový systém určený pro depozici perovskitových tenkých vrstev.
    [Plasma system developed for deposition of perovskite thin films.]
    2012. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v.v. i. Datum udělení vzoru: 21.05.2012. Číslo vzoru: 23845
    Grant CEP: GA ČR GC202/09/J017; GA TA ČR TA01010517; GA ČR(CZ) GAP205/11/0386
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
    Klíčová slova: plasma * magnetron sputtering * plasma-jet * PZT thin films
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
    http://spisy.upv.cz/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0023/uv023845.pdf
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0213731
     
     

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.