Výsledky vyhledávání
- 1.0552174 - FZÚ 2022 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Čada, Martin - Tvarog, Drahoslav - Hubička, Zdeněk - Mareš, P. - Dubau, M. - Vyskočil, J.
Zdroj pro technologii HIPIMS s obloukovým odpařováním.
[Source for HiPIMS technology with arc evaporation.]
Interní kód: FVHA/FZU/2021 ; 2021
Technické parametry: HiPIMS zdroj plazmatu–pulzní frekvence: 10-1 000 Hz HiPIMS zdroj plazmatu–doba pulzu: 30 -1 000 µs Zdroj plazmového oblouku–typický proud: > 10 A/cm2 Zdroj plazmového oblouku–max. napětí: 2 000 V
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Grant CEP: GA MPO FV30177
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: sputtering * HiPIMS * arc * magnetron * DLC
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0327317 - 2.0552141 - FZÚ 2022 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Čada, Martin - Tvarog, Drahoslav - Hubička, Zdeněk - Poruba, A. - Dolák, J.
ECWR plazma zdroj.
[ECWR plasma source.]
Interní kód: FVMF3/FZU/2021 ; 2021
Technické parametry: Vnější průměr vstupní části ECWR zdroje: 6 mm Vnitřní průměr vstupní části ECWR zdroje: 4 mm Vnější průměr pracovní části ECWR zdroje: 25 mm Vnitřní průměr pracovní části ECWR zdroje: 23 mm
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TM01000039
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: electron cyclotron wave resonance * minimal Fab * low-temperature plasma * ALD * RF plasma
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0327313 - 3.0539967 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Čada, Martin - Tvarog, Drahoslav - Hubička, Zdeněk - Poruba, A. - Dolák, J.
ICP plazma zdroj.
[ICP plasma source.]
Interní kód: FVMF2/FZU/2020 ; 2020
Technické parametry: Vnější průměr vstupní části ICP zdroje: 6 mm. Vnitřní průměr vstupní části ICP zdroje: 4 mm. Vnější průměr pracovní části ICP zdroje: 25 mm. Vnitřní průměr pracovní části ICP zdroje: 23 mm.
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TM01000039
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: inductively coupled plasma * Minimal Fab * low-temperature plasma * ALD * RF plasma
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0317650 - 4.0537056 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Čada, Martin - Tvarog, Drahoslav - Kapran, Anna - Hubička, Zdeněk - Poruba, A. - Dolák, J.
Optimalizovaný surfatronový plazmový zdroj pro PE-ALD systém.
[Optimized surfatron plasma source for PE-ALD deposition system.]
Interní kód: FVMF1/FZU/2020 ; 2020
Technické parametry: Vnější průměr křemenné trubičky: 6 mm, vnitřní průměr křemenné trubičky: 4 mm, výstupní tryska: kónická tryska, typ surfatron: mosazný rezonátor typu SAIREM s integrovanou přizpůsobovací jednotkou.
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TM01000039
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: microwave surfatron * MinimalFab * low-temperature plasma * ALD * RF plasma
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314808 - 5.0537050 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Hnilica, J. - Klein, P. - Vašina, P.
Zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů.
[Device for deposition rate increase in HiPIMS using pulse packages.]
Interní kód: FVNCK1/FZU/2020 ; 2020
Technické parametry: Délka pulzu: 30 μs, vzdálenost mezi pulzy v balíčku: 20 μs, střída: 5 %, počet pulzů:4, pracovní tlak v reaktoru: 1 Pa
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Grant CEP: GA TA ČR TN01000038
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: sputtering * thin films * plasma * deposition * deposition rate * pulse package * ionization fraction
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314801 - 6.0518972 - FZÚ 2020 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Kšírová, Petra - Tvarog, Drahoslav - Jetmar, Tomáš
Funkční 3D vzorek s ochranným antiabrazivním a antikorozním povlakem vhodným pro vysoké mechanické a tepelné zatížení.
[Functional sample of 3D part protected with antiabrasive and anticorrosion coating suitable for high mechanical and thermal loads.]
Interní kód: FVG5/FZU/2019 ; 2019
Technické parametry: Délka povlakované trubice 120 mm, vnitřní průměr min. 7,6 mm, maximální tlušťka povlaku 30 mikrometrů. Max. počet vrstev 12, adhezní vrstva Cr, tvrdý povlak CrN.
Ekonomické parametry: Nasazení v průmyslu a nahrazení galvanického pokovování umožní úsporu nákladů na likvidaci ekologicky závadných elektrolytů. Dále plazmové povlaky zajistí vyšší reprodukovatelnost povlaků a větší konkurenceschopnost daného výrobku.
Grant CEP: GA TA ČR TN01000038
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: hollow cathode * coatings * thin films * chromium
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0303972 - 7.0499948 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Olejníček, Jiří - Kšírová, Petra - Straňák, Vítězslav - Adámek, Petr - Tvarog, Drahoslav
Reaktivní HiPIMS depoziční systém optimalizovaný pro tenké optické vrstvy.
[Reactive HiPIMS deposition system optimised for optical thin films.]
Interní kód: FVG1/FZU/2018 ; 2018
Technické parametry: Mezní tlak plazmového reaktoru: 5 10-8 mbar, maximální střední výkon na jeden magnetron: 1000 W, rozměry terčů magnetronů: 50 mm, maximální výkon do ICP elektrody: 400 W, maximální DC magnetické pole
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Grant CEP: GA MPO FV20580
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: sputtering * thin films * plasma * deposition * hollow cathode
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0292132 - 8.0486974 - FZÚ 2018 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Tvarog, Drahoslav - Pultar, M. - Šmíd, Jiří - Straňák, Vítězslav - Olejníček, Jiří - Poruba, Aleš - Vaněk, J. - Pečiva, L. - Lukašík, P. - Dolák, J.
Surfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm.
[Surfatron plasma source for substrates up to 100 mm.]
Interní kód: FV1/FZU/2017 ; 2017
Technické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Ekonomické parametry: Vyvinutý plazmový zdroj umožní zkonstruovat a vyrobit unikátní PE-ALD depoziční systém. Náklady na výrobu celého zařízení nepřesáhly 50 000 Kč.
Grant CEP: GA TA ČR TF03000025
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: Microwave surfatron * thin films * low-temperature plasma * ALD * deposition * plasma diagnostics
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0281681 - 9.0485925 - FZÚ 2018 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Tvarog, Drahoslav - Kšírová, Petra - Klinger, Miloslav
Plazmová aparatura pro povlakování dutých komponent.
[Plasmatic system for coatings of hollow substrates.]
Interní kód: FVG1/FZU/2017 ; 2017
Technické parametry: Generace plazmatu: dutá katoda, druh výboje: RF/DC/DC-pulzní, výkon v plazmatu: max 150 W, průtok argonu: 50-250 sccm, pracovní tlak: 1-20 Pa. Délka povlakované trubky: max 200 mm.
Ekonomické parametry: Plazmová depoziční aparatura byla vyvinuta v rámci projektu GAMA TAČR a bude nabídnuta průmyslovým partnerům jako technologie pro povlakování strojních komponent.
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TG02010056
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: sputtering * thin films * plasma * deposition * hollow cathode
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0280842 - 10.0465021 - FZÚ 2017 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Šmíd, Jiří - Olejníček, Jiří - Hubička, Zdeněk - Čada, Martin
Vícetryskový PVD depoziční systém.
[Multijet PVD deposition system.]
Interní kód: UHV-4DK/FZU2016 ; 2016
Technické parametry: Výsledek je tvořen UHV systémem čerpaným rotační a turbomolekulární vývěvou a obsahuje 4 lineární plazmové trysky pracující na principu výboje v duté katodě. Systém je průběžně upgradován. Ve spouštěcí konfi-guraci měl následující technické parametry: mezní tlak p0: 1x10-3 Pa, pracovní tlak pw: 0.1 – 100 Pa, maximální napětí na zdroji: Um: 600 V, maximální výbojový proud: Im: 5 A, příčný rozměr substrátu lm: až 20 cm, maximální depoziční rychlost dosažená pro TiO2 vrstvy rm: 20 μm/hod.
Ekonomické parametry: Vyvinutý depoziční systém umožňuje vysokorychlostní depozici homogenních oxidových vrstev. Oproti dostupným komerčním magnetronovým systémům dosahuje v DC režimu až desetinásobnou depoziční rychlost.
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TF01000084
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: hollow cathode discharge * multi plasma-jet * thin films * PVD * sputtering
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0263763