Výsledky vyhledávání

  1. 1. 0494044 - FZU-D 2019 RIV CZ cze Z - Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda/plemeno
    Olejníček, Jiří - Šmíd, Jiří - Hubička, Zdeněk - Čada, Martin
    Vysokorychlostní depozice homogenních oxidových vrstev prostřednictvím vícetryskového systému žhavených dutých katod.
    [High rate deposition of homogeneous oxide films by multi-nozzle system of hot hollow cathodes.]
    Interní kód: TF01000084-2018V003 ; 2018
    Technické parametry: Ohledně výsledku byla dne 28.2.2018 uzavřena licenční smlouva mezi Fyzikálním ústavem a společností IQ Structures, s.r.o. (IČ: 24279501)
    Ekonomické parametry: Ve srovnání s reaktivním DC magnetronovým naprašováním umožňuje tato technologie několikanásobné zvýšení depoziční rychlosti oxidových vrstev. Tento nárůst může v závislosti na naprašovaném materiálu dosáhnout až desetinásobku při současném zachování energetické náročnosti depozičního procesu. Technologie byla testována v průmyslové aparatuře společnosti Emerson & Renwick na vrstvách oxidu titaničitého (TiO2) a oproti DC-MS bylo dosaženo trojnásobné depoziční rychlosti.
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TF01000084
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: hollow cathode * plazma nozzle * deposition * thin films
    Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0287285