Výsledky vyhledávání
- 1.0566369 - FZÚ 2023 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Straňák, V. - Olejníček, Jiří - Kohout, Michal - Jetmar, Tomáš - Šmíd, Jiří - Sezemský, P. - Rozhoň, P. - Čurda, P. - Hubička, Zdeněk - Čtvrtlík, R. - Hrabovský, M. - Schovánek, P.
Kombinované plazmatické systémy pro povlakování vnitřních povrchů trubic vícevrstvou ochranou vrstvou s optimalizovanou adhezí k povrchu.
[Combined plasma systems for coating the inner surfaces of tubes with a multi-layer protective layer with optimized adhesion to the surface.]
Interní kód: FVNCK2/FZU-JU-UPOL/2022 ; 2021
Technické parametry: Maximální povlakované trubice: 250 mm Minimální vnitřní průměr povlakované trubice: 5,5 mm Princip depozice: PVD, pulzní PVD, rozprašování duté katody (trysky), rozprašování drátu kruhového průměru.
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum.
Grant CEP: GA TA ČR TN01000038
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: sputtering * thin films * plasma * deposition * hollow cathode
Obor OECD: Coating and films
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0337989 - 2.0550774 - FZÚ 2022 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Straňák, V. - Olejníček, Jiří - Kohout, Michal - Jetmar, Tomáš - Šmíd, Jiří - Sezemský, P. - Rozhoň, P. - Čurda, P. - Hubička, Zdeněk - Čtvrtlík, R. - Hrabovský, M. - Schovánek, P.
Optimalizované multivrstvé plazmatické povlaky vnitřních prostor dlouhých trubic.
[Optimized multilayer plasma coatings of interiors of long tubes.]
Interní kód: FVNCK2/FZU-JU-UPOL/2021 ; 2021
Technické parametry: Ohřev povlakované trubice: výkon: 4x120W lineární halogenová žárovka max teplota: 500 st C b) RF výboj - výkon: dle podmínek 50 – 200 W - frekvence: 13.56 MHz - indukční oddělení: feritový transformátor, rezonanční vzduchový transformátor c) HiPPS výboj - pulzní modulace: 1000 Hz opakovací frekvence, 100 μs šířka pulzu - střední dc výkon: 150 W (při napětí v pulzu cca – 330 V) d) depoziční proces - tlak:1 Pa (v depoziční komoře) - průtok plynu: cca 100 sccm (celkový průtok) - pracovní plyn:směs argonu a dusíku Ar/N2 = 100/0 – 50/50 - teplota katody: 800 – 1250 0C - depozit: Cr/CrN/CrN Maximální tvrdost povlaku: 11.5 GPa Maximání mechanické zatížení (scratch test): 450 mN.
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum.
Grant CEP: GA TA ČR TN01000038
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: thin films * multilayers * hard coating * hollow cathode discharge * hardness * deposition
Obor OECD: Materials engineering
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0326097 - 3.0537054 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Hrubantová, Aneta - Štěrba, J. - Mašková, H. - Olejníček, Jiří - Straňák, Vítězslav - Hubička, Zdeněk
Funkční vzorek antivirálního povlaku CuFeO2.
[Functional sample of antiviral thin film CuFeO2.]
Interní kód: FVNCK1/FZU-JU/2020 ; 2020
Technické parametry: doba depozice 1 h, průtok argonu QAr= 26 sccm, průtok kyslíku QO2= 2 sccm, pracovní tlak p = 2 Pa
Ekonomické parametry: Antivirální tenké vrstvy CuFeO2 byly deponovány pomocí RF magnetronového naprašování. Tato technologie je aplokovatelná v průmyslu a bude nabídnuta průmyslovému partnerovi.
Grant CEP: GA TA ČR TN01000038
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: antiviral films * RF sputtering * delafossite * magnetron
Obor OECD: Materials engineering
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314806 - 4.0537052 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Olejníček, Jiří - Kohout, Michal - Jetmar, Tomáš - Šmíd, Jiří - Sezemský, P. - Rozhoň, P. - Straňák, Vítězslav - Hubička, Zdeněk - Hrabovský, M. - Schovánek, Petr
Funkční vzorek součástí chráněné otěruvzdorným povlakem vhodným pro vysokou mechanickou a tepelnou zátěž.
[Functional sample of part protected with antiabrasive and anticorrosion coating suitable for high mechanical and thermal loads.]
Interní kód: FVNCK1/FZU-JU-UPOL/2020 ; 2020
Technické parametry: Předkládaný funkční vzorek představuje koncepční řešení pro depozice tvrdých, antiabrazivních vrstev (CrN) na vnitřní stěny dlouhých trubic s malým vnitřním průměrem.
Ekonomické parametry: Byla vyvinuta technologie průmyslového povlakování vnitřku dlouhých ocelových trubic tvrdým adhezivním otěruvzdorným povlakek a tento díl byl otestován a nabídnut průmyslovému partnerovi.
Grant CEP: GA TA ČR TN01000038
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: hollow cathode discharge * thin films * tube * CrN * Cr
Obor OECD: Materials engineering
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314804 - 5.0499948 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Olejníček, Jiří - Kšírová, Petra - Straňák, Vítězslav - Adámek, Petr - Tvarog, Drahoslav
Reaktivní HiPIMS depoziční systém optimalizovaný pro tenké optické vrstvy.
[Reactive HiPIMS deposition system optimised for optical thin films.]
Interní kód: FVG1/FZU/2018 ; 2018
Technické parametry: Mezní tlak plazmového reaktoru: 5 10-8 mbar, maximální střední výkon na jeden magnetron: 1000 W, rozměry terčů magnetronů: 50 mm, maximální výkon do ICP elektrody: 400 W, maximální DC magnetické pole
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Grant CEP: GA MPO FV20580
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: sputtering * thin films * plasma * deposition * hollow cathode
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0292132 - 6.0486974 - FZÚ 2018 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Tvarog, Drahoslav - Pultar, M. - Šmíd, Jiří - Straňák, Vítězslav - Olejníček, Jiří - Poruba, Aleš - Vaněk, J. - Pečiva, L. - Lukašík, P. - Dolák, J.
Surfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm.
[Surfatron plasma source for substrates up to 100 mm.]
Interní kód: FV1/FZU/2017 ; 2017
Technické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Ekonomické parametry: Vyvinutý plazmový zdroj umožní zkonstruovat a vyrobit unikátní PE-ALD depoziční systém. Náklady na výrobu celého zařízení nepřesáhly 50 000 Kč.
Grant CEP: GA TA ČR TF03000025
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: Microwave surfatron * thin films * low-temperature plasma * ALD * deposition * plasma diagnostics
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0281681 - 7.0465021 - FZÚ 2017 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Šmíd, Jiří - Olejníček, Jiří - Hubička, Zdeněk - Čada, Martin
Vícetryskový PVD depoziční systém.
[Multijet PVD deposition system.]
Interní kód: UHV-4DK/FZU2016 ; 2016
Technické parametry: Výsledek je tvořen UHV systémem čerpaným rotační a turbomolekulární vývěvou a obsahuje 4 lineární plazmové trysky pracující na principu výboje v duté katodě. Systém je průběžně upgradován. Ve spouštěcí konfi-guraci měl následující technické parametry: mezní tlak p0: 1x10-3 Pa, pracovní tlak pw: 0.1 – 100 Pa, maximální napětí na zdroji: Um: 600 V, maximální výbojový proud: Im: 5 A, příčný rozměr substrátu lm: až 20 cm, maximální depoziční rychlost dosažená pro TiO2 vrstvy rm: 20 μm/hod.
Ekonomické parametry: Vyvinutý depoziční systém umožňuje vysokorychlostní depozici homogenních oxidových vrstev. Oproti dostupným komerčním magnetronovým systémům dosahuje v DC režimu až desetinásobnou depoziční rychlost.
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TF01000084
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: hollow cathode discharge * multi plasma-jet * thin films * PVD * sputtering
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0263763 - 8.0434023 - FZÚ 2015 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Adámek, Petr - Olejníček, Jiří - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Kment, Štěpán
Měřící systém V-A charakteristik solárních článků.
[Solar Cell I-V Curve Measurement System.]
Interní kód: Vam-XIV/A/DFU2014 ; 2014
Technické parametry: Vyvinutý adaptér Vam-XIV/A/DFU2014 ve spojení s řídící jednotkou DSPC umožňuje měření voltampérové charakteristiky fotovoltaických (PV) článků a polovodičových přechodů s vysokým rozlišením proudu.
Ekonomické parametry: Vyvinutý měřící adaptér významně automatizuje a zkracuje dobu měření jednotlivých testovaných vzorků. Náklady na výrobu celého adaptéru nepřesáhly částku 10 000 Kč.
Grant CEP: GA MŠMT LH12045
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: solar cell diagnostics * plasma * measuring system * thin film deposition processes
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0238166 - 9.0424549 - FZÚ 2014 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Adámek, Petr - Kment, Štěpán - Olejníček, Jiří
Aparatura pro měření toků neutrálních a ionizovaných částic na substrát v nízkoteplotním plazmatu.
[An apparatus for neutral and ion flux measurement on substrate in a low-temperature plasma.]
Interní kód: IONEU2013 ; 2013
Technické parametry: Vyvinutá aparatura umožňuje měřit tok (depoziční rychlost) neutrálních nebo nabitých částic na substrát. K tomuto účelu je využito QCM čidlo s možností přivedení předpětí opatřené vhodně zvoleným magneickým polem na vstupu QCM čidla
Ekonomické parametry: Snížení pořizovacích nákladů na přístrojové vybavení.
Grant CEP: GA TA ČR TA01010517
Grant ostatní: AVČR(CZ) M100101215
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: deposition rate * neutral/ion flux ratio * magnetic field * QCM sensor
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0230613 - 10.0424548 - FZÚ 2014 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Adámek, Petr - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Olejníček, Jiří - Jastrabík, Lubomír
Měřicí systém pro mikrovlnnou diagnostiku plazmatu.
[Measuring system for microwave diagnostic of the plasma.]
Interní kód: TRMW2013 ; 2013
Technické parametry: Vyvinutá řídící jednotka umožňuje časově rozlišená měření a s opakovaným měřením výrazně potlačuje šum, rychlost a rozsah měření je dána především komerčním generátorem do 20 GHz a mikrovlnnými detektory
Ekonomické parametry: Snížení pořizovacích nákladů na přístrojové vybavení.
Grant CEP: GA TA ČR TA01010517
Grant ostatní: AVČR(CZ) M100101215
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: microwave diagnostics * plasma * measuring system * plasma processes
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0230611