Výzkum a vývoj pokročilého PVD/PECVD nízkoteplotního plazmatického systému pro depozice funkčních oxidů se zaměřením na tenké a tlusté vrstvy TiO2 pro průmyslové aplikace.
Název projektu
TF01000084
Poskytovatel
GA TA ČR
Doba řešení
2015 - 2017
Příjemce projektu
Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
(Spolu)řešitel projektu
Olejníček
Katal.org.
CAV
Odkazy
(4) - Článek v odborném časopise
(1) - Prototyp, funkční vzorek
(1) - Patentový dokument
(1) - Užitný vzor, průmyslový vzor
(1) - Poloprovoz, technologie, odrůda, plemeno
Soubor
Projekty
Novou verzi záznamu vytvořte pouze v případě, že budete měnit uložené soubory, neboť bude mít přiděleno nové DOI. Pokud nebudete měnit soubory, ale pouze metadatový popis, editujte současnou verzi záznamu.
Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom
jak používáme cookies.