Košík

0562485 - FZÚ 2023 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Hrubantová, Aneta - Hippler, Rainer - Wulff, H. - Čada, Martin - Olejníček, Jiří - Nepomniashchaia, Natalia - Helm, C.A. - Hubička, Zdeněk
Deposition of tungsten oxide films by reactive magnetron sputtering on different substrates.
Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films. Roč. 40, č. 6 (2022), č. článku 063402. ISSN 0734-2101. E-ISSN 1520-8559
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: reactive sputtering * plasma * thin films * semiconductor * XRD
Obor OECD: Coating and films
Impakt faktor: 2.9, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1116/6.0002012
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0335052