Košík

0552189 - FZÚ 2022 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Tvarog, Drahoslav - Olejníček, Jiří - Kratochvíl, Jiří - Kšírová, Petra - Poruba, A. - Hubička, Zdeněk - Čada, Martin
Characterization of radical-enhanced atomic layer deposition process based on microwave surface wave generated plasma.
Journal of Applied Physics. Roč. 130, č. 1 (2021), č. článku 013301. ISSN 0021-8979. E-ISSN 1089-7550
Grant CEP: GA MŠMT LM2018110; GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA TA ČR(CZ) TM01000039; GA TA ČR TF03000025
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: microwave surfatron * low-temperature plasma * ALD * TiO₂ * plasma diagnostics
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 2.877, rok: 2021
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1063/5.0046829
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0327391