Košík

  1. 1.
    0537420 - ÚFE 2021 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
    Mrázek, Jan
    Hydrofobní koloidní difuzní zdroj fosforu pro přípravu dotovaného křemíku typu N.
    [Hydrophobic colloidal diffusion source of phosphorus for preparing doped silicon type N.]
    2020. Vlastník: Ústav fotoniky a elektroniky AV ČR, v. v. i. Datum udělení vzoru: 18.08.2020. Číslo vzoru: 34311
    Institucionální podpora: RVO:67985882
    Klíčová slova: semiconductor * phosphorus * colloid
    Obor OECD: Electrical and electronic engineering
    https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0034/uv034311.pdf
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0315136
    Název souboruStaženoVelikostKomentářVerzePřístup
    UFE 0537420.pdf1462.7 KBJinávyžádat
     
     

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.