Košík

  1. 1.
    0497102 - ÚJF 2019 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
    Macková, Anna - Malinský, Petr - Jagerová, Adéla - Sofer, Z. - Klímová, K. - Sedmidubský, D. - Mikulics, M. - Bottger, R. - Akhmadaliev, S.
    Damage accumulation and structural modification in c-plane and a-plane GaN implanted with 400 keV Kr and Gd ions.
    Surface and Coatings Technology. Roč. 355, SI (2018), s. 22-28. ISSN 0257-8972.
    [International Conference on Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB). Lisbon, 09.07.2017-14.07.2017]
    Grant CEP: GA MŠMT EF16_013/0001812; GA MŠMT LM2015056; GA ČR GA15-01602S
    Institucionální podpora: RVO:61389005
    Klíčová slova: GaN damage accumulation * structure modification in c-plane and a-plane * GaN * RBS channeling studies of implanted GaN
    Obor OECD: Nuclear physics
    Impakt faktor: 3.192, rok: 2018
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0289694
     
     

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.