Košík

0486984 - FZÚ 2018 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Straňák, V. - Kratochvíl, J. - Olejníček, Jiří - Kšírová, Petra - Sezemsky, P. - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk
Enhanced oxidation of TiO₂ films prepared by high power impulse magnetron sputtering running in metallic mode.
Journal of Applied Physics. Roč. 121, č. 17 (2017), s. 1-9, č. článku 171914. ISSN 0021-8979. E-ISSN 1089-7550
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA15-00863S
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: sputter deposition * plasma deposition * gas discharges * metallic thin films * probe plasma diagnostics
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 2.176, rok: 2017
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0281690