Košík

  1. 1.
    0486979 - FZÚ 2018 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
    Hippler, R. - Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Kšírová, Petra - Wulff, H. - Helm, C.A. - Straňák, V.
    Angular dependence of plasma parameters and film properties during high power impulse magnetron sputtering for deposition of Ti and TiO2 layers.
    Journal of Applied Physics. Roč. 121, č. 17 (2017), s. 1-9, č. článku 171906. ISSN 0021-8979. E-ISSN 1089-7550
    Grant CEP: GA ČR(CZ) GA15-00863S
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: HiPIMS * Langmuir probe * titanium dioxide * angular dependence * XRD * SEM
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Impakt faktor: 2.176, rok: 2017
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0281685
     
     

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.