Košík

  1. 1.
    0470666 - FZÚ 2017 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
    Lundin, D. - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk
    Time-resolved ion flux and impedance measurements for process characterization in reactive high-power impulse magnetron sputtering.
    Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films. Roč. 34, č. 4 (2016), 1-10, č. článku 041305. ISSN 0734-2101. E-ISSN 1520-8559
    Grant CEP: GA ČR(CZ) GA15-00863S
    GRANT EU: European Commission(XE) 608800 - HIPPOCAMP
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: radiofrequency current * voltage measurements * energy-distributions * sheath voltages * deposition * density * hysteresis * discharges * films * technology
    Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    Impakt faktor: 1.374, rok: 2016
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0268241
     
     

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.