0449867 - FZÚ 2016 RIV CZ cze L3 - Certifikované metodiky
Jirásek, Vít - Potocký, Štěpán - Sveshnikov, AlexeyObecná metodika modelování vysokoteplotních technologických procesů metodou konečných prvků.
[General methodology for high temperature processes of semiconductor technology by the finite element methods.]
Interní kód: CM 2014-04 ; 2014
Technické parametry: Metodika umožňuje výrazně snížit počet ladících procesů při zprovozňování nových pecí u zákazníků. Umožňuje mnohem jednodušší nastavení procesních parametrů pro výrobu konkrétních vrstev na Si deskách
Ekonomické parametry: Díky této metodice dojde ke snížení náročnosti uvádění nových pecí do provozu, čímž dojde k redukci ceny těchto prací až o 3%.
Certifikační orgán: SVCS Process Innovation s.r.o., Optátova 37, Brno 637 00, Česká republika.
Datum certifikace: 19.12.2014
Grant CEP: GA TA ČR TA01020972
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: CFD modelling * high temperature reactor * high temperature oxidation * phosphorus diffusion * boron diffusion * LPCVD * PECVD
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0251280
